沙田Parylene鍍膜廠常用指南「拉奇納米」

　真空鍍膜應用是真空應用中的一個大分支，在光學、電子學、理化儀器、包裝、機械以及表面處理技術等眾多方面有著十分廣泛的應用。在涂層前一定要清洗產品，避免污染產品，確保表面的清潔度。

真空電鍍的簡單作用過程：真空電鍍接通蒸發(fā)源交流電源，真空電鍍蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，真空電鍍進入輝光放電區(qū)并被電離。真空電鍍帶正電荷的蒸發(fā)料離子，陰極吸引下，隨同離子一同沖向工件，真空電鍍當拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子逾越濺失離子的數(shù)量時，真空電鍍則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。

真空鍍膜技術具有下列優(yōu)點：

薄膜和基體選材廣泛，薄膜厚度可進行控制，薄膜與基體結合強度好，薄膜牢固。

鍍膜技術都需要一個特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或濺射過程中所形成蒸氣分子的運動，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾。

由于在真空條件下制膜，所以薄膜的純度高、密實性好、表面光亮不需要再加工，這就使得薄膜的力學性能和化學性能比電鍍膜和化學膜好。

真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術,在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。不但可以制備可控制的超薄薄膜、原子級平整度的表面、上百層的疊加膜，而且還可以控制薄膜的成分和配比。真空鍍膜技術為制造各種各樣的清潔表面提供了手段。這些薄膜的制備均為科學的研究和發(fā)展提供充分的條件。Parylene鍍膜廠

真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表面工程技術領域的重要組成部分。真空鍍膜技術是利用物理、化學手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜。

1.在真空鍍膜機運轉正常情況下，開動真空鍍膜機時，須先開水管，工作中應隨時注意水壓。

2.在離子轟擊和蒸發(fā)時，應特別注意高壓電線接頭，不得觸動，以防觸電。

3.在用電子鍍膜時，應在鐘罩外圍上鋁板。觀察窗的玻璃要用鉛玻璃，觀察時應戴上鉛玻璃眼鏡，以防X射線侵害人體。

4.鍍制多層介質膜的鍍膜間，應安裝通風吸塵裝置，及時排除有害粉塵。