350型四源有機(jī)無機(jī)熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)價(jià)格詢問報(bào)價(jià)

電阻熱蒸發(fā)鍍膜——“蒸發(fā)技術(shù)”介紹

以下內(nèi)容由沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供，希望對(duì)同行業(yè)的朋友有所幫助。

蒸發(fā)技術(shù)分為間歇蒸發(fā)與連續(xù)蒸發(fā)、直接電阻加熱蒸發(fā)和間接電阻加熱蒸發(fā),連續(xù)生產(chǎn)與制造厚膜時(shí)采用連續(xù)蒸發(fā)加熱。一個(gè)入射的蒸氣原子在表面的滯留時(shí)間中,原子不斷地?cái)U(kuò)散形成不均勻的成核作用，隨著蒸氣原子不斷地沖擊表面,各個(gè)核都在增長(zhǎng)，相鄰各核開始接觸進(jìn)入聚結(jié)階段，直到形成連續(xù)膜。有機(jī)無機(jī)蒸發(fā)鍍膜儀的有機(jī)材料生長(zhǎng)室主要由真空室腔體組件、有機(jī)蒸發(fā)源、熱阻蒸發(fā)舟、樣品傳遞裝置、樣品臺(tái)、膜厚監(jiān)測(cè)儀、真空室照明裝置、烘烤裝置等組成。也可把上述過程劃分為小島階段、網(wǎng)絡(luò)階段、孔階段及連續(xù)膜階段。

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300D三源有機(jī)蒸發(fā)鍍膜機(jī)

主要用途：

特別適合OPV/鈣鈦礦/無機(jī)薄膜太陽能電池、半導(dǎo)體、有機(jī)EL、OLED顯示研究與開發(fā)領(lǐng)域。

系統(tǒng)組成:

主要由真空室系統(tǒng)蒸發(fā)室、蒸發(fā)源系統(tǒng)、樣品臺(tái)系統(tǒng)、 真空抽氣及測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、膜厚測(cè)試 系統(tǒng)、電控系統(tǒng)組成。

技術(shù)指標(biāo)：

極限真空度6.7×10-5Pa，系統(tǒng)漏率：1×10-7PaL/S； 恢復(fù)真空時(shí)間：40分鐘可達(dá)6.6×10 Pa（短時(shí)間暴露 大氣并充干燥氮?dú)夂箝_始抽氣）

樣品臺(tái)：尺寸為4英寸平面樣品；

蒸發(fā)源：3套

4套擋板系統(tǒng)：擋板共有3套，動(dòng)密封手動(dòng)控制；

氣路系統(tǒng):質(zhì)量流量控制器1路

石英晶振膜厚控制儀：膜厚測(cè)量范圍0-999999?

可選分子泵組或者低溫泵組合渦旋干泵抽氣系統(tǒng)

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