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鎂合金微弧氧化技術常用解決方案,日照微弧氧化電源

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發(fā)布時間:2020-12-26 14:35  






       與普通的陽極氧化膜相比, 微弧氧化膜的空隙小,空隙率低,與基質(zhì)結(jié)合緊密, 且在耐蝕、耐磨性能等方面得到了很大的提高。那些用材料制成、在高精尖科技儀器上發(fā)揮關鍵作用的精密零部件,其使用壽命往往直接影響設備的使用壽命。微弧氧化技術生成的膜層綜合性能優(yōu)良,與基體結(jié)合牢固, 且工藝簡單,對環(huán)境污染小, 目前對其生長規(guī)律、生長機理和影響因素等已經(jīng)有了較為深入的研究, 在工業(yè)上得到了一定的應用, 是一種具有發(fā)展?jié)摿Φ逆V合金表面處理技術。微弧氧化技術在現(xiàn)代工業(yè)中應用匯越來越廣泛。


      微弧氧化的陶瓷膜較陽極氧化膜在防腐蝕、耐磨性、電絕緣性和裝飾性等方面都有明顯的改善和提高,但并不意味著微弧氧化就屬于市場的專有產(chǎn)物。陶瓷層與基體牢固結(jié)合、結(jié)構(gòu)緊密,具有很高的韌性、耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。事實上,微弧氧化正體現(xiàn)出非常明顯的普及趨勢。微弧氧化由于具有工藝簡單、占地面積小、、效果強、適合規(guī)模生產(chǎn),又對環(huán)境污染小,因此目前在諸多行業(yè)都處于蓬勃發(fā)展的時期??梢灶A見在未來的輕金屬領域,微弧氧化工藝也將會迎來大規(guī)模應用的時代。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術、微弧氧化電源



溶液溫度濃度對微弧氧化膜層性能的影響

       1、微弧氧化溶液溫度低時,氧化膜的生長速度較快,膜致密,性能較佳。但溫度過低時,氧化作用較弱,膜厚和硬度值都較低。

       2、微弧氧化溶液溫度過高時,堿性電解液對氧化膜的溶解作用增強,致使膜厚與硬度顯著下降,且溶液易飛濺,膜層也易被局部燒焦或擊穿。所謂以微弧氧化溶液的溫度一定要控制好,這樣才可以提高微弧氧化膜層的性能。

       3、溶液酸堿度:酸堿度過大或過小,溶解速度都加快,氧化膜生長速度減慢,所以一般選擇弱堿性溶液。

       4、溶液濃度:溶液濃度對氧化膜的成膜速率、表面顏色和粗糙度都有影響。微弧氧化技術、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源



       微弧氧化技術是在陽極氧化基礎上發(fā)展起來的一項新技術,是在含有特定離子的電解液中,通過弧光放電處理和電化學氧化的共同作用,在鋁、鎂、鈦等有色金屬及其合金材料表面原位產(chǎn)生一層與基體結(jié)合良好的陶瓷層的表面處理技術,膜層具有耐蝕性能高、硬度高、耐磨性能好、高阻抗、絕熱性能好等特點。微弧氧化電源具有單問直流、單向直流脈沖、正反向直流脈沖的多臺階自動恒流控制特點。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術




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