化妝品潔凈車間建設(shè)價(jià)格合理 天津子潤凈化工程公司

凈化工程系統(tǒng)的組成部分主要有哪些

參與潔凈室項(xiàng)目的朋友可能不了解凈化項(xiàng)目的組成系統(tǒng)。 目前尚不清楚哪種系統(tǒng)組件主要用于凈化工程系統(tǒng)。 以下簡要介紹凈化工程系統(tǒng)的主要組成部分。 通過本文的介紹，我希望我的朋友能夠理解凈化項(xiàng)目。 凈化工程系統(tǒng)的組成部分主要有哪些 凈化工程的主要組成部分有六個(gè)部分：地面系統(tǒng)，風(fēng)道系統(tǒng)，自動控制系統(tǒng)，電氣系統(tǒng)，給排水系統(tǒng)和空氣過濾系統(tǒng)。

競爭方向轉(zhuǎn)變由價(jià)格競爭轉(zhuǎn)變?yōu)閮r(jià)值競爭

競爭方向轉(zhuǎn)變 由價(jià)格競爭轉(zhuǎn)變?yōu)閮r(jià)值競爭。隨著電子產(chǎn)品的集成化、密化、微型化、功能化等趨勢，對元器件的可靠性要求越來越高，電子信息制造業(yè)對潔凈室的要求標(biāo)準(zhǔn)也更加嚴(yán)格。微量的臟污或微弱的靜電都有可能造成元器件產(chǎn)品良品率的大幅降低，直接影響公司的效益。目前硬盤磁頭的靜電壓閾值已經(jīng)下降到3 V以內(nèi)，部分IC的封裝環(huán)境要求達(dá)到Class10，甚至Class1的水平。電子信息行業(yè)的技術(shù)發(fā)展和要求促使?jié)崈艄こ绦袠I(yè)企業(yè)由價(jià)格競爭轉(zhuǎn)向技術(shù)競爭，只有具備技術(shù)研發(fā)、自主能力的企業(yè)才能滿足客戶需求而持續(xù)發(fā)展，才能設(shè)計(jì)和建造符合要求的的潔凈室，相關(guān)技術(shù)和服務(wù)能力的提升將成為未來市場競爭的焦點(diǎn)。

潔凈室中的溫濕度控制

潔凈室中的溫濕度控制 潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴(yán)的趨勢。 具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細(xì)，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時(shí)要求濕度值一般較低，因?yàn)槿顺龊挂院?，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間不宜超過25度。 濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超過55%時(shí)，冷卻水管壁上會結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時(shí)易生銹。此外，濕度太高時(shí)將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面耐難以清除。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)佳溫度范圍為35—45%。 潔凈室中的氣壓規(guī)定 對于大部分潔凈空間，為了防止外界污染侵入，需要保持內(nèi)部的壓力（靜壓）高于外部的壓力（靜壓）。壓力差的維持一般應(yīng)符合以下原則： 1．潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。 2.潔凈度級別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級別低的空間的壓力。 3.相通潔凈室之間的門要開向潔凈度級別高的房間。 壓力差的維持依靠新風(fēng)量，這個(gè)新風(fēng)量要能補(bǔ)償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風(fēng)量。所以壓力差的物理意義就是漏泄（或滲透）風(fēng)量通過潔凈室的各種縫隙時(shí)的阻力。

潔凈室中的氣流速度規(guī)定

潔凈室中的氣流速度規(guī)定 這里要討論的氣流速度是指潔凈室內(nèi)的氣流速度，在其他潔凈空間中的氣流速度在討論具體設(shè)備時(shí)再說明。 對于亂流潔凈室 由于主主要靠空氣的稀釋作用來減輕室內(nèi)污染的程度，所以主要用換氣次數(shù)這一概念，而不直接用速度的概念，不過對室內(nèi)氣流速度也有如下要求； (1)送風(fēng)口出口氣流速度不宜太大，和單純空調(diào)房間相比，要求速度衰減更快，擴(kuò)散角度更大。 (2)吹過水平面的氣流速度（例如側(cè)送時(shí)回流速度）不宜太大，以免吹起表面微粒重返氣流，而造成再污染，這一速度一般不宜大干0.2m/s。 對于平行流潔凈室《習(xí)慣上稱層流潔凈室），由于主要靠氣流的“活塞打擠壓作用排除行染，所以截面上的速度就是非常重要的指標(biāo)。過去都參考美國20gB標(biāo)準(zhǔn)，采用0.45m/s．但人們也都了解到這樣大速度所需要的通風(fēng)量是極大的，為了節(jié)能，也都在探求降低速一風(fēng)速的可行性。 在我國，《空氣潔凈技術(shù)措施》和<潔凈廠房設(shè)計(jì)規(guī)范））都是這樣規(guī)定的 垂直平行流（層流）潔凈室≥0.25m/s 水平平行流（層流）潔凈室≥0.35 m/s 研究表明以上規(guī)定基本上滿足控制污染的要求，但認(rèn)為應(yīng)區(qū)別不同情況分出不同的檔別，更能體現(xiàn)節(jié)能的目的。