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一般生產(chǎn)區(qū)清潔要求是什么

一般生產(chǎn)區(qū)清潔要求是什么？ 1）玻璃、墻面、門窗、頂棚應(yīng)清潔，無塵埃，地上應(yīng)平整，無積水、雜物。建筑結(jié)構(gòu)設(shè)備設(shè)備潔凈無缺，設(shè)備、管線排列規(guī)整并包扎光亮，無跑、冒、滴、漏現(xiàn)象，有定時(shí)清潔、修理的記載。 2）原輔料、中心產(chǎn)品、制品分類堆放，有防塵辦法，有明顯的狀況符號。 3）樓道、走廊、電梯間不能寄存物品，堅(jiān)持曉暢、清潔。 4）生產(chǎn)用東西、容器、設(shè)備按規(guī)則放置，按規(guī)程清潔。 5）生產(chǎn)場所無非生產(chǎn)用品，不在生產(chǎn)場所內(nèi)吸煙、吃東西、睡覺、會客，不暴曬工裝。

一般生產(chǎn)區(qū)工藝清潔要求是什么

一般生產(chǎn)區(qū)工藝清潔要求是什么？ 1）前處理車間的每個(gè)操作區(qū)域只能處理一種中藥材，替換品種時(shí)要清場。提取車間的每個(gè)操作區(qū)域只能寄存一個(gè)制劑所有的中藥材耗損料，替換制劑時(shí)要清場，避免穿插污染和混雜。 2）中藥質(zhì)料按規(guī)則進(jìn)行前處理，處理后裝入清潔容器內(nèi)轉(zhuǎn)入下一道工序。復(fù)方混合提取所用中藥質(zhì)料應(yīng)按一次投料量備料，并按品種規(guī)整堆放在每個(gè)操作區(qū)域規(guī)則的方位，經(jīng)前處理加工合格后方可投料。

潔凈室中的溫濕度控制

潔凈室中的溫濕度控制 潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴(yán)的趨勢。 具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細(xì)，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時(shí)要求濕度值一般較低，因?yàn)槿顺龊挂院?，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間不宜超過25度。 濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超過55%時(shí)，冷卻水管壁上會結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時(shí)易生銹。此外，濕度太高時(shí)將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面耐難以清除。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)佳溫度范圍為35—45%。 潔凈室中的氣壓規(guī)定 對于大部分潔凈空間，為了防止外界污染侵入，需要保持內(nèi)部的壓力（靜壓）高于外部的壓力（靜壓）。壓力差的維持一般應(yīng)符合以下原則： 1．潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。 2.潔凈度級別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級別低的空間的壓力。 3.相通潔凈室之間的門要開向潔凈度級別高的房間。 壓力差的維持依靠新風(fēng)量，這個(gè)新風(fēng)量要能補(bǔ)償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風(fēng)量。所以壓力差的物理意義就是漏泄（或滲透）風(fēng)量通過潔凈室的各種縫隙時(shí)的阻力。