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發(fā)布時間:2020-07-25 06:46  






公司產(chǎn)品包括石英掩膜版,蘇打掩膜版,以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構想、草圖,定制版圖,蘇州制版提供高質量掩膜版以及后期的代加工服務!

使用無掩模光刻機讀取版圖文件,對帶膠的空白掩膜版進行非接觸式曝光(曝光波長405nm),照射掩膜版上所需圖形區(qū)域,使該區(qū)域的光刻膠(通常為正膠)發(fā)生光化學反應

經(jīng)過顯影、定影后,曝光區(qū)域的光刻膠溶解脫落,暴露出下面的鉻層






光掩膜上游主要包括圖形設計、光掩膜設備及材料行業(yè),下游主要包括IC制造、IC封裝、平面顯示和印制線路板等行業(yè),應用于主流消費電子 (手機、平板、可穿戴設備)、筆記本電腦、車載電子、網(wǎng)絡通信、家用電器、LED 照明、物聯(lián)網(wǎng)、電子等終端產(chǎn)品。


目前全球范圍內(nèi)光刻掩膜版主要以專業(yè)生產(chǎn)商為主。由于下游應用領域廠商自建光刻掩膜版生產(chǎn)線的投入產(chǎn)出比很低,且光刻掩膜版行業(yè)具有一定的技術壁壘,所以光刻掩膜版都是由專業(yè)的生產(chǎn)商進行生產(chǎn)。






光呆板業(yè)界別稱光掩模板、掩膜版,光罩,英文名字MASK或PHOTOMASK),材料:石英玻璃、金屬鉻和光感應膠,該商品是由石英玻璃或是碳酸鈉夾層玻璃做為襯底,在其上邊鍍上一層層金屬鉻和光感應膠。例如,可以用平整的玻璃板,涂覆上金屬鉻薄膜,通過類似照相制版的方法制備而成。在塑料薄膜、塑膠或夾層玻璃化學反應原材料上制做各種各樣作用圖型并精i明確位,便于用以光致抗蝕劑鍍層可選擇性曝i光的這種構造,稱之為光刻掩模板。 






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