電子廠廢氣處理多重優(yōu)惠

常用的有機(jī)廢氣處理工藝

低溫等離子體技術(shù)  

(1)工作原理

低溫等離子廢氣處理設(shè)備里的介質(zhì)阻擋放電過(guò)程中，等離子體內(nèi)部產(chǎn)生富含極高化學(xué)活性的粒子，如電子、離子、臭氧和激發(fā)態(tài)分子等。理論上有機(jī)廢氣與這些具有較高能量的活性基團(tuán)發(fā)生反應(yīng)，部分會(huì)被裂解，1終轉(zhuǎn)化為二氧化碳和水等物質(zhì)，從而達(dá)到凈化廢氣的目的。

(2)主要問(wèn)題

現(xiàn)大量使用的小功率低溫等離子體是過(guò)去餐廚行業(yè)用于油煙處理的,其不適合VOCs處理，且生成副產(chǎn)物和大量的臭氧，會(huì)拉弧引燃VOCs等問(wèn)題。

噪音污染它是接近或超過(guò)人類(lèi)聽(tīng)覺(jué)容許極限的聲音污染。它能影響和改變?nèi)梭w的正常生理狀態(tài)，甚至誘發(fā)疾病。

當(dāng)活性炭吸附達(dá)到飽和后，對(duì)飽和的活性炭床進(jìn)行脫附再生；通入水蒸汽加熱炭層，VOC被吹脫放出，并與水蒸汽形成蒸汽混合物，一起離開(kāi)活性炭吸附床，用冷凝器冷卻蒸汽混合物，使蒸汽冷凝為液體。

可用于各種烘道、印鐵制罐、表面噴涂、印刷油墨、電機(jī)絕緣處理、皮鞋粘膠等烘干流水線，凈化各工序產(chǎn)生的有機(jī)廢氣。

廢氣處理工藝——光催化氧化工藝

光催化氧化工藝簡(jiǎn)介

光化學(xué)和光催化氧化法是目前研究較多的一種高1級(jí)氧化技術(shù)。光催化反應(yīng)即在光的作用下進(jìn)行的化學(xué)反應(yīng)。分子吸收特定波長(zhǎng)的電磁輻射后，是分子達(dá)到激發(fā)態(tài)，然后發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，產(chǎn)生新的物質(zhì)，或成為熱反應(yīng)的引發(fā)劑。

光催化氧化工藝原理及流程

VOCs廢氣處理9大工藝、適用范圍、成本控制

Ti02作為一種半導(dǎo)體材料其自身的光電特性決定了它可以用作光催化劑。半導(dǎo)體的能帶結(jié)構(gòu)通常是一個(gè)電子填充低能量?jī)r(jià)帶（VB）和一個(gè)空的高能量的導(dǎo)帶（CB），導(dǎo)帶和價(jià)帶之間的區(qū)域被稱(chēng)為禁帶。

當(dāng)照射半導(dǎo)體的光能量等于或大于禁帶寬度時(shí)，其價(jià)帶電子被激發(fā)，跨過(guò)禁帶進(jìn)入導(dǎo)帶，并在價(jià)帶中產(chǎn)生相應(yīng)空穴。電子從價(jià)帶激發(fā)到導(dǎo)帶，激發(fā)后分離的電子和空穴都有一部分進(jìn)一步進(jìn)行反應(yīng)。