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國際性鋰電池回收現(xiàn)行政策

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國際性鋰電池回收現(xiàn)行政策 

1991年歐洲共同體施行實施充電電池命令（91/157/EEC），并隨之充電電池產(chǎn)業(yè)鏈的迅速發(fā)展趨勢和環(huán)境保護規(guī)定的不斷提升，前后左右2次修定并各自頒布了充電電池命令（93/86/EEC）和（98/101/EEC）。2006年歐洲共同體公布鋰電池回收新命令（2006/66/EC），要求其理事國鋰電池回收再運用總體目標在2016年9月26日以前充電電池綜合性利用率超過45%，工業(yè)生產(chǎn)充電電池保持100%收購；后于2008年填補公布了廢料架構命令（2008/98/EC），對廢舊電池類型深化細分化，確立鋰電池回收等級。  

1993年日本國修定《節(jié)能法》并一起施行《再生能源法》合理布局鋰電池回收；于2000年政府部門實施“3R”方案（recycling/reuse/reduce），明確規(guī)定創(chuàng)建充電電池“循環(huán)系統(tǒng)-再運用”收購系統(tǒng)軟件。1991年和1994年英國陸續(xù)創(chuàng)立手持式充電鋰電池研究會（PRBA）充電電池和充電鋰電池回收商（PBRC），并制訂生態(tài)環(huán)境保護規(guī)范輔助鋰電池回收。

電池片的制作工藝

外擴散種類 

1.穩(wěn)定源外擴散：在穩(wěn)態(tài)外擴散的標準下，企業(yè)時間內(nèi)根據(jù)垂直平分外擴散方位的企業(yè)總面積的外擴散品質與該橫截面處的濃度梯度正比。 

2.限制源外擴散：在再遍布全過程中，外擴散是在限制源的標準下進有的，全部外擴散全過程的殘渣源，限制于外擴散前積淀在硅片表層的無限薄層內(nèi)的殘渣總產(chǎn)量，沒有外地人殘渣填補即在硅片表層處的殘渣流相對密度。 

生產(chǎn)車間應用的是二步外擴散：預淀積外擴散。預擴散是穩(wěn)定源外擴散，關鍵是促使硅片表層汽體濃度值相同，維持整批方塊電阻是勻稱性。主外擴散是限制源外擴散，而且在主外擴散后進入大氮汽體，做為推動汽體，增加PN結深度。

振鑫焱光伏科技有限公司常年采購：高價回收硅片，電池片，初級多晶硅，銀漿布，單晶硅，多晶硅，太陽能電池，光伏組件，太陽能電池板，客戶撤退，降級，庫存，El，不良測試，二手，舊，工程，拆卸，路燈，拆解電站，拆卸，膠合板，層壓板，無邊界晶體硅，多晶硅，單晶硅，實驗板，債務償還，返工，光伏模塊回收等。

PECVD

PE 目的

在硅片表面沉積一層氮化硅減反射膜，以增加入射在硅片上的光的透射，減少反射，氫原子攙雜在氮化硅中附加了氫的鈍化作用。

其化學反應可以簡單寫成 ： SiH 4 NH 3 =SiN:H 3H 2 。

基本 原理

PECVD 技術原理是利用低溫等離子體作能量源，樣品置于低氣壓下輝光放電的陰極上，利用輝光放電（或另加發(fā)熱體）使樣品升溫到預定的溫度，然后通入適量的反應氣體，氣體經(jīng)一系列化學反應和等離子體反應，在樣品表面形成固態(tài)薄膜。 PECVD 方法區(qū)別于其它 CVD 方法的特點在于等離子體中含有大量高能量的電子，它們可以提供化學氣相沉積過程所需的激活能。電子與氣相分子的碰撞可以促進氣體分子的分解、化合、激發(fā)和電離過程，生成活性很高的各種化學基團，因而顯著降低 CVD 薄膜沉積的溫度范圍，使得原來需要在高溫下才能進行的 CVD 過程得以在低溫下實現(xiàn)。  

基本特征

1. 薄膜沉積工藝的低溫化（ < 450 ℃ ）。

2. 節(jié)省能源，降低成本。

3. 提高產(chǎn)能。

4. 減少了高溫導致的硅片中少子壽命衰減。

擴散方式

PE 設備有兩類：平板式和管式。

按反應方式分為：直接式（島津）和間接式（ Roth ＆ Rau  ）。

直接式：基片位于一個電極上，直接接觸等離子體。  

間接式：基片不接觸激發(fā)電極。 在微波激發(fā)等離子的設備里，等離子產(chǎn)生在反應腔之外，然后由石英管導入反應腔中。在這種設備里微波只激發(fā) NH3 ，而 SiH4 直接進入反應腔。間接 PECVD 的沉積速率比直接的要高很多，這對大規(guī)模生產(chǎn)尤其重要。

電池片絲網(wǎng)印刷技術

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電池片絲網(wǎng)印刷技術

印刷厚度：絲網(wǎng)和感光膜的厚度決定印刷后圖形的厚度即線條的厚度，如圖 10 所示，在一般情況下，絲網(wǎng)目數(shù)越低，絲經(jīng)越粗，印刷后的漿料層就越高，所用絲網(wǎng)目數(shù)較高時，印刷后漿料層就低一些。感光膜的厚度與絲網(wǎng)目數(shù)和線條的寬度有關：目數(shù)越高，絲徑越細，感光膜與絲網(wǎng)的接觸面積越小，二者的附著力減小，

果印刷線條變窄，增加感光膜的厚度易造成脫落，所以感光膜較薄，感光膜的厚度約為絲網(wǎng)厚度的 15 ％～ 25 ％；對于背鋁和背銀工序，選取250 目絲網(wǎng)，其厚度為 58um，感光膜厚度為 10 ～ 15um ，則印后厚度為 68 ～ 73μm ，這里計算出來的厚度時漿料的濕厚度（ wetthickness ）．需經(jīng)過烘干（ dry ）和燒結（ fire ）才是終厚度（干厚度），干厚度是濕厚度的 30% ～ 40% ；對于正銀工序，選取 330 目絲網(wǎng)，其厚度為 44um ，感光膜厚度為 5 ～ 10μm ，則印后濕厚度約為 49 ～ 54μm 。  

選擇絲網(wǎng)絲徑及目數(shù)時，要求網(wǎng)格的孔長為漿料粉體粒徑的 2.5 ～ 5 倍；目數(shù)越低絲網(wǎng)越稀疏，網(wǎng)孔越大，油墨通過性就越好；網(wǎng)孔越小，油墨通過性越差，如圖 9 所示。  

網(wǎng)框 ：網(wǎng)框大多采用硬鋁及鋁合金以承受繃網(wǎng)所產(chǎn)生的力，連接絲網(wǎng)的底面需要較高的平面度，約為 0.04mm × 150mm × 150mm ; 網(wǎng)框規(guī)格一般為承印物的 2 倍：以 150mm 電池片為例，承印物面積為

150mm × 150mm ，網(wǎng)框內(nèi)口的面積應為300mm × 300mm  。