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衡水鍍鎳加工生產(chǎn)廠家常用指南 玉德金金屬加工處理

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發(fā)布時(shí)間:2020-08-27 10:05  








當(dāng)鋁這種金屬最早出現(xiàn)的時(shí)候,它并沒(méi)有被立刻應(yīng)用到人們的生活當(dāng)中。后來(lái),針對(duì)其獨(dú)特功能和特性的一批新產(chǎn)品逐漸問(wèn)世,這種高科技材料也逐漸擁有越來(lái)越寬闊的市場(chǎng)。雖然鋁的應(yīng)用歷史相對(duì)較短,但現(xiàn)在市面上鋁產(chǎn)品的產(chǎn)量已經(jīng)遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)了其他有色金屬產(chǎn)品的總和。

材料特性:柔韌可塑、易于制成合金、高強(qiáng)度-重量比、出色的防腐蝕性、易導(dǎo)電導(dǎo)熱、可回收。

典型用途: 交通工具骨架、飛行器零部件、廚房用具、包裝以及家具。鋁也經(jīng)常被用以加固一些大型建筑結(jié)構(gòu),比如倫敦皮卡迪利廣場(chǎng)上的愛(ài)神雕像,以及紐約克萊斯勒汽車大廈的頂部等,都曾用鋁質(zhì)加固材料。




物理氣相沉積(PVD)

物理氣相沉積是指在真空條件下,用物理的方法,使材料汽化成原子、分子或電離成離子,并通過(guò)氣相過(guò)程,在材料表面沉積一層薄膜的技術(shù)。

物理沉積技術(shù)主要包括真空蒸鍍、濺射鍍、離子鍍?nèi)N基本方法。

物理氣相沉積具有適用的基體材料和膜層材料廣泛;工藝簡(jiǎn)單、省材料、無(wú)污染;獲得的膜層膜基附著力強(qiáng)、膜層厚度均勻、致密、少等優(yōu)點(diǎn)。

廣泛用于機(jī)械、航空航天、電子、光學(xué)和輕工業(yè)等領(lǐng)域制備耐磨、耐蝕、耐熱、導(dǎo)電、絕緣、光學(xué)、磁性、壓電、滑潤(rùn)、超導(dǎo)等薄膜。


氣相沉積技術(shù)是指將含有沉積元素的氣相物質(zhì),通過(guò)物理或化學(xué)的方法沉積在材料表面形成薄膜的一種新型鍍膜技術(shù)。

根據(jù)沉積過(guò)程的原理不同,氣相沉積技術(shù)可分為物理氣相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉積(CVD)兩大類。









機(jī)械拋光

依靠非常細(xì)小的拋光粉的磨削、滾壓作用,除去試樣磨面上的極薄一層金屬。表面淬火

利用快速加熱使表層奧實(shí)體化,立即淬火使表層組織轉(zhuǎn)變?yōu)轳R氏體以強(qiáng)化表面,心部組織基本不變。

感應(yīng)加熱

利用交變電流在表面感應(yīng)巨大渦流,使金屬表面迅速加熱形成氧化層。

【金屬表面涂層】

表面涂層方法是通過(guò)物理或化學(xué)的方法在基體材料表面制備一層與基體組織結(jié)構(gòu)和性能不同的鍍層或膜層。根據(jù)涂層作用原理不同,又可大致分為轉(zhuǎn)化膜層和沉積膜層兩類。

轉(zhuǎn)化膜層是通過(guò)金屬基體與環(huán)境相(通常為液體)發(fā)生某種特定的化學(xué)反應(yīng)而在基體表面原位生長(zhǎng)的膜層,化學(xué)組成多為無(wú)機(jī)成分。由于原位生長(zhǎng)的特殊性,轉(zhuǎn)化膜通常具有較高的膜基界面結(jié)合強(qiáng)度。目前形成轉(zhuǎn)化膜的方法主要包括鈍化(passivation)、陽(yáng)極氧化(anodization)、微弧氧化(micro-arc oxidation)、離子注入(ion implantation)以及化學(xué)轉(zhuǎn)化(chemical conversion)等。





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