臺(tái)州制版報(bào)價(jià)服務(wù)至上「蘇州制版」

公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

尺寸漲縮原因分析

膠片在光繪前沒(méi)有經(jīng)過(guò)預(yù)置

由于膠片制造時(shí)無(wú)法預(yù)先控制膠片中的濕度與每個(gè)生產(chǎn)車間的濕度一致，因此使用之前應(yīng)先使其與工作環(huán)境達(dá)到平衡的狀況。建議預(yù)置時(shí)間為12小時(shí)，預(yù)置時(shí)必須打開膠片的內(nèi)包裝，使其與外界的空氣充分接觸。

隨著沖版量的不斷增加和空氣中的CO2不斷溶入，顯影液中的OH-濃度會(huì)下降，pH值將越來(lái)越低，顯影時(shí)間應(yīng)慢慢變長(zhǎng)，至后在正常曝光條件下PS版無(wú)法顯影，這就是顯影液疲勞的現(xiàn)象。但隨著顯影液pH值的降低，堿液對(duì)氧化層和涂層樹脂的腐蝕力下降，版材的網(wǎng)點(diǎn)再現(xiàn)性及耐印力比用新配制的顯影液好一些。但必須注意兩點(diǎn)，一是沖版量必須控制在顯影液容許范圍內(nèi)；通過(guò)光刻制版工藝，將微米級(jí)和納米級(jí)的精細(xì)圖案刻制于掩膜版基板上從而制作成掩膜版。

光刻掩膜版材質(zhì)可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他（包含凸版、菲林）等。其中石英掩膜版和蘇打掩膜版為高校和科研院所光刻時(shí)所常用的光刻掩膜版。

石英掩膜版

使用石英玻璃為基板材料，光學(xué)透過(guò)率高，熱膨脹率低，相比蘇打玻璃更為平整和耐磨，使用壽命長(zhǎng)，主要用于掩膜版

使用蘇打玻璃作為基板材料，光學(xué)透過(guò)率較高，熱膨脹率相對(duì)高于石英玻璃，平整度和耐磨性相對(duì)弱于石英玻璃，主要用于中低精度掩膜版

石英巖是一種主要由石英組成的變質(zhì)巖（石英含量大于85%），是石英砂巖及硅質(zhì)巖經(jīng)變質(zhì)作用形成。一般是由石英砂巖或其他硅質(zhì)巖石經(jīng)過(guò)區(qū)域變質(zhì)作用，重結(jié)晶而形成的。也可能是在巖漿附近的硅質(zhì)巖石經(jīng)過(guò)熱接觸變質(zhì)作用而形成石英巖。