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周口處理鍍鈦加工服務(wù)廠家報價

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發(fā)布時間:2020-07-29 23:24  






 鍍鈦是作為金屬材料的表面處理的一種工藝,現(xiàn)在已經(jīng)在工業(yè)領(lǐng)域普遍應(yīng)用并有逐漸推廣使用的意向。

  在二十世紀(jì)七十年代末,人類就已經(jīng)開始物理氣相沉積技術(shù),即PVD技術(shù)。物理氣相沉積技術(shù)可以應(yīng)用在硬質(zhì)膜的制造上,它能夠提高產(chǎn)品的機(jī)械化學(xué)性能,使制造出的產(chǎn)品具有高耐磨性、高硬度等性能,還可以減輕摩擦作用。清洗效果,能使鍍層直接貼近基體,有效地增強(qiáng)了附著力,簡化了大量的鍍前清洗工作。這種技術(shù)在剛開始使用時,就在世界各國的工具制造業(yè)引起了巨大的反響,受到了高度重視。同時,這種技術(shù)工藝符合現(xiàn)代人們對環(huán)境無污染加工技術(shù)的要求,是一種綠色環(huán)保的技術(shù)。




而鍍鈦呢,技術(shù)雖然與鍍金、鍍銀有著相同之處,但是由于鈦的本身特質(zhì)決定,鍍鈦實際上是在物體的表面利用電的化學(xué)辦法鍍上了一層鈦膜,它與我們常說的水鍍差不多。聽說鍍鈦采用的水鍍工藝就是我們比較熟知的電鍍工藝。在直接水冷的情況下,金屬靶材的靶功率密度允許值為10~30W/cm2。據(jù)說,電鍍工藝霸占了很長時間的鍍膜工藝市場,主要因為它本身具有的毒性非常大,因此市場才逐漸縮小。


PVD(Physical Vapor Deition),在真空條件下,采用物理方法,使材料源表面氣化成原子、分子或離子,在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)。PVD主要分為蒸鍍、濺射和離子鍍?nèi)箢悺?

蒸發(fā)鍍膜

真空條件下,將鍍料加熱蒸發(fā)或升華,材料的原子或分子直接在襯底上成膜的技術(shù)。根據(jù)加熱方法的不同主要有以下幾種蒸發(fā)鍍膜技術(shù)。

采用電阻加熱蒸發(fā)源的蒸發(fā)鍍膜技術(shù),一般用于蒸發(fā)低熔點材料,如鋁、金、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等;加熱電阻一般采用鎢、鉬、鉭等。


離子鍍基本原理:在真空條件下,采用某種等離子體電離技術(shù),使鍍料原子部分電離成離子,同時產(chǎn)生許多高能量的中性原子,在被鍍基體上加負(fù)偏壓。這樣在深度負(fù)偏壓的作用下,離子沉積于基體表面形成薄膜。

九、離子鍍的工藝過程:蒸發(fā)料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極(即工件)的吸引下,以很高的速度注入到工件表面。




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