無錫光刻版優(yōu)惠報價 制版廠

公司產品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據客戶的構想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質量掩膜版以及后期的代加工服務！

刻蝕或離子注入完成后，將進行光刻的后一步，即將光刻膠去除，以方便進行半導體器件制造的其他步驟。通常，半導體器件制造整個過程中，會進行很多次光刻流程。生產復雜集成電路的工藝過程中可能需要進行多達50步光刻，而生產薄膜所需的光刻次數(shù)會少一些。缺點：批量要求大，每次修改程序就需要重新做光刻板，不同程序不能同時生產，供貨周期長。

掩膜版是對勻膠鉻版經過光繪加工后的產品。勻膠鉻版（光掩膜基版）由玻璃基板、鉻層、氧化鉻層和光刻膠層構成的。通過光刻制版工藝，將微米級和納米級的精細圖案刻制于掩膜版基板上從而制作成掩膜版。

掩膜版是對勻膠鉻版經過光繪加工后的產品。勻膠鉻版(光掩膜基版)由玻璃基板、鉻層、氧化鉻層和光刻膠層構成的。通過光刻制版工藝,將微米級和納米級的精細圖案刻制于掩膜版基板上從而制作成掩膜版。

根據基板材質的不同主要可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他(包含凸版、菲林)等。其中石英掩膜版和蘇打掩膜版為高校和科研院所光刻時所常用的光刻掩膜版。