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PET真空鍍膜設備相關問題的解決方法
PET真空鍍膜設備平均水消耗量為0.6m3/小時,每小時平均耗電:850W,每30天更換5次過濾芯,更換過濾芯數(shù)量20只,每天消耗過濾芯數(shù)量:0.7只,過濾芯可后級更換前級,更換周期也可根據(jù)具體情況延長。
設備在交付時會提供操作、調(diào)試、維修等一系列全套技術資料,包括操作和維修手冊。維修手冊中含電路圖、氣路圖、水管路圖,并列出控制設備、控制元件、易耗品以及易磨損的部件名稱、型號、規(guī)格、制造商或供應商,以便用戶可以隨時修理與維護清洗設備。
至成鍍膜機多靶離子束濺射鍍膜機
至成鍍膜機多靶離子束濺射鍍膜機是研究超導、類金剛石、光學、磁性等高質(zhì)量薄膜和材料表面改性的光機一體化的現(xiàn)代化鍍膜設備。該機采用四靶、雙離子源、離子源為考夫曼源。其原理是利用具有1500ev能量的正離子束或中性粒子轟擊靶材料,使材料表面的原子和分子從母材中濺射出來,沉積在基片上成膜??慑冎迫我獠牧?,包括金屬、合金、超導體、半導體、絕緣體等。該機采用80年代剛剛發(fā)展起來的離子束濺射技術,利用雙離子源、主槍,對靶材轟擊,輔槍在鍍前對基片進行清洗,增強基片的活性,提高結合力及純度。沉積過程中低能轟擊膜,增強沉積原子表面擴散和遷移,減少薄膜結晶結的缺陷,并配有對基片處理的各種功能,如加熱、冷卻、旋轉、激光處理、掩膜等。引出柵φ25mm離子能量,1500ev能量束流大于80mA。
離子真空鍍膜機鍍膜工藝及鍍膜產(chǎn)品表面防腐方法
不銹鋼基材通常會用拋光、拉絲、噴砂、化學蝕刻、激光雕刻、數(shù)控機床雕刻等作表面美工處理,有的還用激光焊接,水法電鍍鎳鉻層等。那么離子真空鍍膜機啟到了很關鍵的作用,今天至成小編為大家講解一下離子真空鍍膜機鍍膜工藝及鍍膜產(chǎn)品表面防腐方法。
其實大家都知道,以上介紹幾種不銹鋼基材表面處理方法,各自有各自的優(yōu)勢和劣勢。如:拋光作業(yè)會在工件上殘留難以去除的硬化了的拋光蠟;尼龍輪拉絲在拉絲溝上會殘留透明的不易發(fā)現(xiàn)的高分子化合物;砂輪拉絲可能殘留磨粒和粘結劑,或因摩擦過熱產(chǎn)生氧化皮;噴砂會有陶瓷砂粒﹑玻璃砂粒、氧化鋁砂粒殘留鑲嵌在表面上;化學蝕刻會有腐蝕產(chǎn)物殘留在腐蝕坑內(nèi),或在其它非腐蝕表面上殘留用于防腐蝕的保護物質(zhì);激光雕刻處理會產(chǎn)生高溫氧化皮和燒蝕基體碎片殘留;數(shù)控機床雕刻會有高溫氧化皮和切削油殘留,還會有基材碎片被壓入基體上;激光焊接也會導致高溫氧化等;水法電鍍鉻層會生成難以去除的復雜氧化物,這些處理引起的污染不徹底清除會導致離子鍍過程打火、鍍層假附著、掉膜、顏色不均等不良。
在離子真空鍍膜機鍍產(chǎn)品中美工處理方式往往不是單一的,而是多種作業(yè)組合,這更增加了鍍前清洗的困難。采用傳統(tǒng)的超聲去油除蠟的方法是不能勝任的,必須調(diào)整清洗工藝,對不同的污染,可選擇機械清除、氣相清洗﹑真空加熱后再清洗、陰極電解﹑陽極電解、或采用針對性的清洗劑等等。這些綜合措施可取得較好的效果,但對有些污染仍未找到理想的解決辦法。新近等離子體拋光方法應用到鍍前清洗是值得關注的技術,該技術在某些鍍層的褪鍍?nèi)〉昧己眯Ч?
光學真空鍍膜機清洗和保養(yǎng)方法
光學薄膜在我們的生活中無處不在,從精密及光學設備、顯示器設備到日常生活中的光學薄膜應用;比方說,平時戴的眼鏡、數(shù)碼相機、各式家電用品,或者是防偽技術,皆能被稱之為光學薄膜技術應用之延伸。光學鍍膜技術以及普及到人們生活方方面面,因此光學真空鍍膜機也是大家目前非常關注的話題。今天至成真空小編為大家介紹一下光學真空鍍膜機在平時運行的時候該如何清洗和保養(yǎng)問題,希望能讓大家對光學真空鍍膜機多一些了解。
首先我們來介紹一下光緒真空鍍膜機的清洗問題:設備使用一個星期后,因鍍料除鍍在工件表面外,亦因無定向性而工作室內(nèi)的襯板上鍍料,并越鍍越厚,該層膜厚因組織、繞疏松,吸收大量氣體而造成真空鍍膜設備抽氣越來越慢。此時,應對工作室及襯板進行清洗,如不必要拆落來的部件,可用砂紙打磨干凈。
因此,襯板必須烘干水份才能安裝,烘干前,襯板的水分盡量抹干,工作架等部件用砂紙清潔后,需要把真空室的所有灰塵清理干凈,此可用吸塵器吸干凈灰塵。后安裝襯板時,真空室及襯板都需要用酒精控拭干凈。如使用電子槍及離子源輔助鍍膜,可能會造成清潔困難,可使用噴沙等方法來清潔。