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真空鍍膜設備離子鍍的類型及特點

離子鍍是結合真空蒸鍍和濺射鍍兩種技術而發(fā)展起來的沉積技術。在真空條件下，采用適當?shù)姆绞绞瑰兡げ牧险舭l(fā)，利用氣體放電使工作氣體和被蒸發(fā)物質部分電離，在氣體離子和被蒸發(fā)物質離子的轟擊下，蒸發(fā)物質或其反應產(chǎn)物在基體上沉積成膜。離子鍍的基本過程包括鍍膜材料的蒸發(fā)、離子化、離子加速、離子轟擊工件表面成膜。根據(jù)鍍膜材料不同的蒸發(fā)方式和氣體的離化方式，構成了不同類型的離子鍍，下表是幾種主要的離子鍍。離子鍍具有鍍層與基體附著性能好、繞射性能好、可鍍材質廣、沉積速率快等優(yōu)點。

表離子鍍的種類及其特點

種類蒸發(fā)源離化方法工作環(huán)境特點用途

直流放電法電阻輝光放電dc:0.1kv～5kv惰性氣體1pa，0.25ma/cm2結構簡單，膜層結合力強，但鍍件溫升高，分散性差！耐熱，潤滑等鍍件

弧光放電法電子束、燈絲弧光放電dc:100v高真空1.33x10-4pa離化率高，易制成反應膜，可在高真空下成膜，利于提高質量切削工具、金屬裝飾等鍍件

空心陰極法空心陰極等離子體電子束dc:0v～200v惰性氣體或反應氣體離化率高，蒸發(fā)速度大，易獲得高純度膜層裝飾、耐磨等鍍件

調(diào)頻激勵法電阻、電子束射頻電場13.56mhzdc:0.1kv～5kv惰性氣體或反應氣體離化率高，膜層結合力強，鍍件溫升低，但分散性差光學、半導體等鍍件

電場蒸發(fā)法電子束二次電子dc:1kv～5kv真空不純氣體少，能形成較好的膜電子元件

多陰極法電阻、電子束熱電子dc:0v～5kv惰性氣體或反應氣體低速電子離化效果好裝飾、電子、精密機械等零件

聚焦離子束法電阻聚集離子束dc:0v～5kv惰性氣體因離子聚束，膜層結合力強電子元件

活性反應法電子束二次電子dc:200v反應氣體o2、n2、ch4、c2h4等金屬與反應氣體組合能制備多種傾倒物膜層電子、裝飾、耐磨等鍍件

真空鍍膜機PVD涂層技術有哪些優(yōu)點

真空鍍膜機PVD涂層技術適用于各種加工要求和工件材料的高速鋼和硬質合金工具，那么它有哪些優(yōu)點和特點呢？下面至成小編為大家詳細介紹一下：

（1）PVD膜層能直接鍍在不銹鋼以及硬質合金上，對比較軟的鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應先進行化學電鍍鉻，然后才適合鍍PVD，但是水鍍后做PVD容易起泡，不良率較高；

（2）典型的PVD涂層加工溫度在250℃~450℃之間；

（3）涂層種類和厚度決定工藝時間，一般工藝時間為3~6小時；

（4）PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.3μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm~1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能，并能夠維持工件尺寸基本不變，鍍后不須再加工；

（5）PVD技術不僅提高了鍍膜與基體材料的結合強度，涂層成分也由TiN發(fā)展為TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta-C等多元復合涂層，形成不同的顏色的表面效果。

（6）目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。通過控制鍍膜過程中的相關參數(shù)，可以控制鍍出的顏色；鍍膜結束后可以用相關的儀器對顏色值進行測量，使顏色得以量化，以確定所鍍出的顏色是否滿足要求。

多弧離子真空鍍膜機發(fā)展歷程及特點

20世紀70年代以來，隨著工業(yè)技術的不斷發(fā)展，對材料的綜合性能要求不斷提高，單一材料性能已經(jīng)不能滿足某些特征環(huán)境下工作機械的性能要求。離子真空鍍膜機鍍膜技術通過物理作用，使基體表面沉積出薄膜，在美觀的同時又有效提高鍍件的物理化學性能，從而提高產(chǎn)品的使用壽命。離子鍍技術是當今使用面廣、先進的表面處理技術之一。據(jù)統(tǒng)計，國內(nèi)外已有近一半以上表面處理使用多弧離子鍍技術，特別適用于對耐磨性、耐腐蝕性有特殊要求的場合。80年代后期，國內(nèi)外相繼開發(fā)了離化效率更高的電弧放電真空離子鍍、多弧真空離子鍍等，使離子鍍技術進入了一個新階段.

近年來，離子真空鍍膜機的自動化程度得到了較快發(fā)展，國外的設備采用智能一體化控制系統(tǒng)，可精準計算和控制鍍膜過程中的基體溫度、氣體流量和靶電流等關鍵性參數(shù)。國內(nèi)真空離子鍍膜機的自動化程度也有了一定的發(fā)展，但在鍍膜產(chǎn)品穩(wěn)定性和精準性方面尚需提升，設備依賴進口。同時多弧離子鍍膜機低端產(chǎn)品市場存在供大于求的情況，價格競爭較為激烈。