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三：無環(huán)境污染：目前國家大力倡導(dǎo)生產(chǎn)環(huán)保，因為一切鍍層資料都是在真空環(huán)境下經(jīng)過等離子體堆積在工件表面，沒有溶液污染，所以對環(huán)境的損害適當(dāng)小。

可是因為取得真空和等離子體的儀器設(shè)備精細貴重，并且堆積技術(shù)還把握在少量技術(shù)人員手中，沒有很多被推行，其出資和日常出產(chǎn)維護費用貴重.可是跟著社會的不斷進步，真空電鍍加工技術(shù)的優(yōu)勢會越來越明顯，在某些職業(yè)替代傳統(tǒng)的濕法電鍍是大勢所趨。

真空鍍膜技術(shù)初現(xiàn)于20世紀(jì)30年代，四五十年始出現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用，工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)開始于20世紀(jì)80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業(yè)中取得廣泛的應(yīng)用。真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬材料)，屬于物理氣相沉積工藝。因為鍍層常為金屬薄膜，故也稱真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包括在金屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。在所有被鍍材料中，以塑料為常見，其次，為紙張鍍膜。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法。

真空電鍍是利用的什麼原理?

在高真空度的條件下，高純度的鍍層金屬（如鋁）在高溫下蒸發(fā)后會自由地飛散開并沉降在工件表面，形成鍍層。氣為保護性氣體，防止氧化反應(yīng)影響鍍層質(zhì)量。