脈沖激光沉積裝置廠家歡迎來電 沈陽鵬程真空技術(shù)公司

脈沖激光沉積的優(yōu)點(diǎn)

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1. 易獲得期望化學(xué)計(jì)量比的多組分薄膜，即具有良好的保成分性；

2. 沉積速率高，試驗(yàn)周期短，襯底溫度要求低，制備的薄膜均勻；

3. 工藝參數(shù)任意調(diào)節(jié)，對(duì)靶材的種類沒有限制；

4. 發(fā)展?jié)摿薮螅哂袠O大的兼容性；

5. 便于清潔處理，可以制備多種薄膜材料。

常規(guī)沉積條件下的組合合成

脈沖激光沉積系統(tǒng)特點(diǎn)及優(yōu)勢(shì)：

可根據(jù)客戶需求定制產(chǎn)品，靈活性高，并提供專業(yè)的技術(shù)支持；靶臺(tái)可以安裝6個(gè)靶位，靶材更換靈活；樣品臺(tái)樣品尺寸從10x10mm樣品到2英寸樣品均適用；進(jìn)樣室可以存儲(chǔ)多個(gè)靶和樣品；交易過程無需繁瑣的進(jìn)、出關(guān)手續(xù), 交貨期短，性價(jià)比高；

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司擁有先進(jìn)的技術(shù)，我們都以質(zhì)量為本，信譽(yù)高，我們竭誠(chéng)歡迎廣大的顧客來公司洽談業(yè)務(wù)。如果您對(duì)脈沖激光沉積感興趣，歡迎點(diǎn)擊左右兩側(cè)的在線客服，或撥打咨詢電話。

脈沖激光沉積簡(jiǎn)介

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——專業(yè)脈沖激光沉積供應(yīng)商，我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?

【設(shè)備主要用途】

PLD450A型脈沖激光沉積設(shè)備采用PLD脈沖激光沉積技術(shù)，用于制備高溫超導(dǎo)薄膜、半導(dǎo)體膜、鐵電薄膜、硬質(zhì)薄膜以及微電子和光電子用多元氧化物薄膜及異質(zhì)結(jié)，也可用于制備氮、碳、硅化合物及各種有機(jī)—無機(jī)復(fù)合材料薄膜及金剛石薄膜等。

【設(shè)備優(yōu)點(diǎn)】

設(shè)備全程采用一鍵式操作抽氣，關(guān)機(jī)，程序自動(dòng)化定時(shí)操作。避免了繁瑣的角閥，插板閥人工開啟。

【設(shè)備主要組成】

設(shè)備由沉積腔室（單室球形或圓筒形）、樣品加熱轉(zhuǎn)臺(tái)、激光入射轉(zhuǎn)靶、激光窗、電源控制系統(tǒng)、激光束掃描系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)控制轉(zhuǎn)靶的旋轉(zhuǎn)、脈沖準(zhǔn)分子激光器等組成