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杭州AF鍍膜設(shè)備多重優(yōu)惠「多圖」

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發(fā)布時間:2020-07-24 19:23  









電子束蒸發(fā)的優(yōu)點在于:


電子束的光斑可以隨意調(diào)整,可以一槍多用,燈絲可以隱藏,避免污染,可以蒸發(fā)任意鍍膜材料,維修方便,蒸發(fā)速度可以隨意控制,材料分解小,膜密度高。機械強度好。濺射方式是用高速正離子轟擊靶材表面,通過動能傳輸,令靶材的分子(原子)有足夠的能量從靶材表面逸出,在產(chǎn)品表面凝聚形成薄膜。用濺射的方法制鍍的薄膜附著性強,薄膜的純度高,可以同時濺射多種不同成分的材料,但是對靶材的要求高,不能象電子槍一樣節(jié)約資源。目前運用多的有磁控濺射,磁控濺射是指平行于陰極表面施加強電場,將電子約束在陰極靶材表面附近,提高電離效率。它是操作簡單的一種,所以運用非常廣。



真空鍍膜機真空的清洗方法,你知道嗎?


真空鍍膜機真空清洗一般定義為在真空工藝進行前,先從工件或系統(tǒng)材料表面清除所不期望的物質(zhì)的過程。真空零部件的表面清洗處理是很必要的,因為由污染物所造成的氣體、蒸氣源會使真空系統(tǒng)不能獲得所要求的真空度。此外,由于污染物的存在,還會影響真空部件連接處的強度和密封性能。

一.真空加熱清洗

將工件放置于常壓或真空中加熱.促使其表面上的揮發(fā)雜質(zhì)蒸發(fā)來達(dá)到清洗的目的,這種方法的清洗效果與工件的環(huán)境壓力、在真空中保留時間的長短、加熱溫度、污染物的類型及工件材料有關(guān)。其原理是加熱工件.促使其表面吸附的水分子和各種碳?xì)浠衔锓肿拥慕馕饔迷鰪姟=馕鰪姷某潭扰c溫度有關(guān)。在超高真空下,為了得到原子級清潔表面,加熱溫度必高于450度才行.加熱清洗方法特別有效。但有時,這種處理方法也會產(chǎn)生副作用。由于加熱的結(jié)果,可能發(fā)生某些碳?xì)浠衔锞酆铣奢^大的團粒,并同時分解成碳渣


二.紫外線輻照清洗

利用紫外輻照來分解表面上的碳?xì)浠衔?。例如,在空氣中照?5h就可產(chǎn)生清潔的玻璃表面。如果把適當(dāng)預(yù)清洗的表面放在一個產(chǎn)生臭氧的紫外線源中.要不了幾分鐘就可以形成清潔表面(工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機理是:在紫外線照射下,污物分子受激并離解,而臭氧的生成和存在產(chǎn)生高活性的原子態(tài)氧。受激的污物分子和由污物離解產(chǎn)生的自由基與原子態(tài)氧作用.形成較簡單易揮發(fā)分子.如H203、CO2和N2.其反應(yīng)速率隨溫度的增加而增加.



真空鍍膜機的工作原理是怎樣的?


真空鍍膜機的運用非常廣泛,涉入到各個行業(yè),也廣受大家喜愛,那么它的工作原理是怎樣的呢?下面至成真空小編為大家詳細(xì)的介紹一下,希望能幫到大家:

真空鍍膜設(shè)備主要指需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括多弧離子真空鍍膜設(shè)備,真空離子蒸發(fā),光學(xué)鍍膜機,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。真空鍍膜的工作原理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結(jié)晶。由于空氣對蒸發(fā)的膜體分子會產(chǎn)生阻力造成碰撞使結(jié)晶體變得粗糙無光,所以必須在高真空下才能使結(jié)晶體細(xì)密光亮,如果真空度不高結(jié)晶體就會失去光澤結(jié)合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射,結(jié)合差工效低光澤差?,F(xiàn)在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜,解決了過去自然蒸發(fā)無法加工的膜體品種,如鍍鈦鍍鋯等等。



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