臺(tái)灣真空鍍膜設(shè)備誠(chéng)信企業(yè)推薦,東莞拉奇納米鍍膜

多弧離子PVD鍍膜設(shè)備　　

腔體結(jié)構(gòu)：  立式前開(kāi)門(mén)，臥式前開(kāi)門(mén)，后置真空獲得系統(tǒng)　　

材質(zhì)用料：  腔體采用SUS304不銹鋼材質(zhì)　　

離子弧源：  依據(jù)設(shè)備大小不同配備多套弧電源系統(tǒng)　　

偏壓電源：  配備大功率單級(jí)脈沖偏壓電源　　

多弧靶材：  標(biāo)配多套鈦靶或不銹鋼靶材　　

轉(zhuǎn)動(dòng)系統(tǒng)： 變頻調(diào)速，公自轉(zhuǎn)結(jié)合，可采用上傳動(dòng)或下傳動(dòng)方式　　

真空系統(tǒng)（裝飾鍍膜設(shè)備Decorative coating）：擴(kuò)散泵（可選分子泵） 羅茨泵 機(jī)械泵 維持泵 深冷系統(tǒng)（可選）

真空鍍膜機(jī)主要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類(lèi)，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。 

真空鍍膜機(jī)工作的環(huán)境要求：       

真空鍍膜設(shè)備要在真空條件下工作，因此該設(shè)備要滿(mǎn)足真空對(duì)環(huán)境的要求。真空對(duì)環(huán)境的要求，一般包括真空設(shè)備對(duì)所處實(shí)驗(yàn)室（或車(chē)間）的溫度、空氣中的微粒等周?chē)h(huán)境的要求，和對(duì)處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個(gè)方面。

鍍膜機(jī)工藝在裝飾品方面的運(yùn)用跟著經(jīng)濟(jì)的開(kāi)展和生活水平的進(jìn)步，大家喜愛(ài)將手表殼、表帶、服飾、燈飾、眼鏡架、室表里裝飾件、五金箱包、手機(jī)殼、手機(jī)視屏、衛(wèi)生潔具、食品包裝等裝飾品精飾得五光十色。

鍍膜技能在飛機(jī)防護(hù)涂層方面的運(yùn)用飛機(jī)的鈦合金緊固件，原來(lái)選用電鍍辦法鍍鎘。但在鍍鎘中含有氫，所以在飛翔進(jìn)程中，遭到大氣、海水的腐蝕，鍍層上簡(jiǎn)單發(fā)生"鎘脆"，甚至導(dǎo)致"空難"。1964年，選用離子鍍辦法在鈦合金緊固件上鍍鋁，處理了飛機(jī)零件的"鎘脆"疑問(wèn)。在離子鍍技能中，因?yàn)榻o工件施加負(fù)偏壓，能夠構(gòu)成"偽分散層"、細(xì)化膜層安排，因而能夠顯著進(jìn)步膜層的耐腐蝕功能。

工藝特點(diǎn)

（1）廣泛應(yīng)用于金屬涂層、陶瓷涂層、無(wú)機(jī)涂層材料等。

（2）在產(chǎn)量方面，從單件到大批量皆可。

（3）有質(zhì)量?jī)?yōu)勢(shì)，沉積溫度低，薄膜成份易控，膜厚與淀積時(shí)間成正比，均勻性，重復(fù)性好，臺(tái)階覆蓋性?xún)?yōu)良。

（4）工具涂層的生產(chǎn)效率不如PVD，具體取決于特定技術(shù)要求和輔助工藝。

4、適用材料

化學(xué)氣相沉積曾是真空技術(shù)廣泛用于陶瓷沉積的一種技術(shù)，特別是對(duì)工具涂層更是這樣。

20世界80年代早期隨著等離子體輔助PVD工藝的顯露，CVD在工具方面的應(yīng)用衰落了。但由于這種工藝具有非常好的滲入特性，其在CVI、ALE等領(lǐng)域的工藝中有著很好的應(yīng)用前景，主要用于金屬涂層、陶瓷涂層、無(wú)機(jī)涂層材料。