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真空蒸鍍基本原理:在真空條件下,使金屬、金屬合金等蒸發(fā),然后沉積在基體表面上,蒸發(fā)的方法常用電阻加熱,電子?xùn)|轟擊鍍料,使蒸發(fā)成氣相,然后沉積在基體表面,歷,真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術(shù)。
濺射鍍膜基本原理:充(Ar)氣的真空條件下,使氣進(jìn)行輝光放電,這時(shí)(Ar)原子電離成氮離子(Ar),離子在電場(chǎng)力的作用下,加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材,靶材會(huì)被濺射出來而沉積到工件表面。濺射鍍膜中的入射離子,一般采用輝光放電獲得,在10-2pa~10Pa范圍,所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中,易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞,使運(yùn)動(dòng)方向隨機(jī),沉積的膜易于均勻。
由于PVD涂層能提供更好的邊緣保持力,防止氧化和腐蝕,在切削過程中保持清晰,不會(huì)與骨骼、組織或體液發(fā)生反應(yīng),故而,越來越多都用于,例如鋒利的手術(shù)器械、針頭、鉆頭、、各種裝置組件以及應(yīng)用的“磨損”部件。PVD功能性硬涂層(如DLC,TIN)已廣泛應(yīng)用在不銹鋼零部件上,作用是可減少摩損和延長(zhǎng)零部件壽命,但因?yàn)橥繉颖旧碛腥毕莺停允褂迷谝恍?nbsp; 耐腐蝕要求高的環(huán)境下,效果不佳。PVD功能膜配合納米透明膜是目前更理想的解決方案:PVD涂層提供耐磨性,納米透明膜提供耐腐蝕性。
PVD工藝一般只是直線沉積,對(duì)形狀復(fù)雜,縱橫比高或有深孔的工件是難以得到均勻的厚度。納米透明膜可解決這問題,無論形狀多復(fù)雜,每個(gè)位置的膜厚都是一致的,沒有大偏差。