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真空鍍膜機
真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。
需要鍍膜的被稱為基片,鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。 對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,終形成薄膜。真空鍍膜機適用范圍1.建筑五金:衛(wèi)浴五金(如水龍頭).門鎖.門拉手.衛(wèi)浴、五金合葉、家具等。
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鍍膜機操作程序
真空鍍膜機操作程序具體操作時請參照該設(shè)備說明書和設(shè)備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標(biāo)注說明。
① 檢查真空鍍膜機各操作控制開關(guān)是否在'關(guān)'位置。
② 打開總電源開關(guān),設(shè)備送電。
③ 低壓閥拉出。開充氣閥,聽不到氣流聲后,啟動升鐘罩閥,鐘罩升起。
④ 安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位,保證無任何雜質(zhì)污物。
⑤ 落下鐘罩。
⑥ 啟動抽真空機械泵。
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真空鍍膜機部件分析
真空主體——真空腔根據(jù)加工產(chǎn)品要求的各異,真空腔的大小也不一樣,目前應(yīng)用1多的有直徑1、3M、0、9M、1、5M、1、8M等,腔體由不銹鋼' target=_blank>不銹鋼材料制作,要求不生銹、堅實等,真空腔各部分有連接閥,用來連接各抽氣泵浦。第六,還要防止漏孔阻塞,有時因為操作失誤,檢漏過程中,一些塵?;蛞后w等把漏孔阻塞了,以為在該方位沒有漏孔,但當(dāng)這些阻塞物因為內(nèi)外壓強區(qū)別進步或別的緣由使漏孔不堵了,那漏氣仍是存在的。
輔助抽氣系統(tǒng):排氣系統(tǒng)為鍍膜機真空系統(tǒng)的重要部分,主要有由機械泵、增壓泵(主要介紹羅茨泵)、油擴散泵三大部分組成。此排氣系統(tǒng)采用“擴散泵 機械泵 羅茨泵 低溫冷阱 polycold”組成。排氣流程為:機械泵先將真空腔抽至小于2、0*10-2PA左右的低真空狀態(tài),為擴散泵后繼抽真空提供前提,之后當(dāng)擴散泵抽真空腔的時候,機械泵又配合油擴散泵組成串聯(lián),以這樣的方式完成抽氣動作。油擴散泵的應(yīng)用壓強范圍是10-1帕-10-7帕,它是利用氣體的擴散現(xiàn)象來排氣的,它具有結(jié)構(gòu)簡單,操作方便,抽速大等特點。
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現(xiàn)代真空鍍膜機膜厚測量及監(jiān)控方法
涂層的鍍膜機控制方法是直接的石英晶體微天平(QCM)的方法,該儀器可以直接驅(qū)動的蒸發(fā)源,通過PID控制回路傳動擋板,使蒸發(fā)率。只要儀器和系統(tǒng)控制軟件的連接,它可以控制涂層的全過程。但(QCM)的準(zhǔn)確性是有限的,鍍膜機部分原因是其監(jiān)測代替光學(xué)厚度的涂層質(zhì)量。真空室是真空設(shè)備的一個主要組成部位,真空鍍膜設(shè)備真空室設(shè)計主要考慮的就是密封性和可靠性,結(jié)構(gòu)必須要合理,真空設(shè)備的材料生產(chǎn)都是在真空室內(nèi)進行的,材料對真空度的影響要小,設(shè)計不能馬虎,要注意一些問題。
此外,雖然QCM在低溫下非常穩(wěn)定,但溫度高,它將成為對溫度很敏感。在長時間的加熱過程中,鍍膜機很難避免傳感器為敏感的區(qū)域,導(dǎo)致薄膜的重大錯誤。 光學(xué)監(jiān)測是一種涂層優(yōu)選的監(jiān)控模式,鍍膜機這是因為它能準(zhǔn)確控制膜的厚度(如果使用得當(dāng))。
精度的提高,由于許多因素,但根本的原因是光學(xué)厚度的監(jiān)測。optimalswa-i-05單一波長的光學(xué)監(jiān)測系統(tǒng),是間接控制,鍍膜機先進的光學(xué)監(jiān)測軟件結(jié)合王博士的發(fā)展,有效地改善和靈敏度變化的光反應(yīng)的膜厚度的減少終的誤差的理論方法,提供監(jiān)測波長的反饋或傳輸模式的選擇和廣泛的。特別適用于涂布各種薄膜厚度監(jiān)控包括不規(guī)則的膜。當(dāng)擴散泵油被電爐加熱時,產(chǎn)生的油蒸汽沿著導(dǎo)流管經(jīng)傘形噴嘴向下噴出。