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化學(xué)開封機(jī)廠家信賴推薦「多圖」

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發(fā)布時(shí)間:2021-09-27 07:01  






等離子開封機(jī);緊湊型設(shè)計(jì);銅導(dǎo)線(以及金、鋁或銅/鈀)不會(huì)產(chǎn)生蝕刻。芯片鈍化層的低攻擊性(選擇性>500:1)對(duì)樣品沒有離子,沒有輻射,沒有電場(chǎng)的影響。開封時(shí)間:1-3小時(shí),激光處理后。可增加流量控制器(MFC), 用于反應(yīng)離子刻蝕配置PC上的過程。蘇州特斯特電子科技有限公司,主要從事各類測(cè)試、檢測(cè)儀器設(shè)備的代理銷售和技術(shù)服務(wù),產(chǎn)品涵蓋電子元器件,電路板,線纜線束的測(cè)試與檢測(cè)。設(shè)備主要來自于歐美日等先進(jìn)測(cè)試設(shè)備制造國(guó)家。





研磨RIE

RIE是干蝕刻的一種,這種蝕刻的原理是,當(dāng)在平板電極之間施加10~100MHZ的高頻電壓(RF,radio frequency)時(shí)會(huì)產(chǎn)生數(shù)百微米厚的離子層,在其中放入試樣,離子高速撞擊試樣而完成化學(xué)反應(yīng)蝕刻,此即為RIE(Reactive Ion Etching)。蘇州特斯特電子科技有限公司,主要從事各類測(cè)試、檢測(cè)儀器設(shè)備的代理銷售和技術(shù)服務(wù),產(chǎn)品涵蓋電子元器件,電路板,線纜線束的測(cè)試與檢測(cè)。



激光開封機(jī)使用環(huán)境1. 濕度要求為 40%~80% 無結(jié)露2.環(huán)境濕度要求在 15C~30C 之間, 要求安裝空調(diào)3.設(shè)備工作空間要保證無塵 避免金屬拋光研磨等粉塵嚴(yán)重的工作環(huán)境4. 安裝設(shè)備附近應(yīng)無強(qiáng)烈電磁信號(hào)干擾, 安裝地周圍避免有無線電發(fā)射站(或中繼站)5.地基振幅: 小于 5um ; 震動(dòng)加速度: 小于 0.05g ; 避免有大型沖壓等機(jī)床設(shè)備在附近6.供電壓220V 電網(wǎng)波動(dòng): /-5%, 電網(wǎng)地線符合國(guó)際要求, 電壓幅 5%以上的地區(qū), 應(yīng)加裝自動(dòng)穩(wěn)壓,穩(wěn)流裝置.


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