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鍍硬鉻常見故障及排除方法
鍍硬鉻鉻層剝落后底部應(yīng)有鉻層
產(chǎn)生原因:
①鍍鉻過程中電流中斷,再通電時未按鉻上鍍鉻工藝進行
②液位低于鍍件后再補入冷水
③觸點接觸不良,發(fā)熱
排除方法:
①中間斷電再鍍時,應(yīng)先陽極處理1~2min,再用階梯式電流升至正常電流電鍍
②鍍件不能露出液面、鍍液揮發(fā)后應(yīng)及時補充
③用砂紙清理觸點,保持導(dǎo)電良好
同一槽一起鍍的零件有的厚,有的薄
產(chǎn)生原因:
①不同鍍件面積大小不均
②部分掛具接觸不良
③掛具截面積大小不均
排除方法:
①面積小的零件應(yīng)增加陰極保護
②檢查每一掛具的導(dǎo)電情況
③調(diào)整掛具情況
鍍鉻件下半部位出現(xiàn)毛刺、?。某電鍍廠鍍出硬鉻層下半部嚴重起毛刺,稍加擦抹即能脫落,毛刺脫落后即出現(xiàn)。??
這二現(xiàn)象據(jù)說過去未曾發(fā)生過,經(jīng)進一步觀察發(fā)現(xiàn)問題在槽底,因工件的上半部分少且多為細毛刺、小,下部分則相反。與因鍍液中硫酸與鉻酐之比含量過低或被氯離子污染而引起的情況完全不一樣,且多在工件的朝上面。??
為了解鍍鉻槽溶液中的槽底部位情況,筆者找來一根化驗溶液時吸取溶液的長型玻璃管,吸出一管從液面到槽底的溶液,從溶液看上部清澈,中部渾濁,底部呈泥漿狀。
這是次發(fā)現(xiàn)這一癥狀,因過去一直鍍小件,小件離槽底泥漿部分還有一定間距,工件進、出槽時不會擾動泥漿,互不干涉,故相安無事。??
蕞后清理去沉淀物之后,鍍出工件平整光滑,刺、,質(zhì)量問題徹底得到解決。??
為徹底除盡污物,可用活性炭吸附法,但不能用氧化劑氧化。??
處理時可加入3~4g/L粉末活性炭,并同時將溶液的溫度調(diào)至60~70℃,處理過程中要多攪拌,以提高吸附效果。
鍍硬鉻電鍍工藝特點:
① 陰極電流效率髙(達25~25%),沉積速度快(比傳統(tǒng)鍍鉻工藝快一倍以上。在陰極電流密度60A/dm2,溫度55~65°C時,電流效率達到60um/h。
② 鉻層硬度髙(HV達860~1200,按GB9790-88)。耐磨損摩擦性好(比傳統(tǒng)鍍鉻可提高20~30%)。
③ 鉻層微裂紋多(可達200~1000條/cm2),耐腐蝕性提高(比傳統(tǒng)鍍鉻可提高一倍)。
④ 鍍層與基體結(jié)合力強,前處理與傳統(tǒng)鍍鉻相同,操作容易。
⑤ 鍍液分散能力好,鍍層厚度均勻不易產(chǎn)生皰瘤現(xiàn)象。外觀較傳統(tǒng)鍍鉻光亮平滑。
⑥ 鍍液不含氟化物,工件無低電流密度區(qū)的腐蝕。
⑦ 鍍液陽極性能好,對陽極的腐蝕等同或低于傳統(tǒng)鍍鉻。
⑧ 節(jié)約用電近一倍,提高工作效率1-2倍,節(jié)省勞力,縮短加工周期,降低電鍍綜合成本
鍍硬鉻的槽液配制
㈠新配槽液一般按鉻酐200G/L,ST—927EK 24G/L,再加入一定量的試劑硫酸,使鉻酐與硫酸的比在100?1.0~1.5范圍內(nèi)。
㈡配制步驟:
①加入2/3體積的去離子水(不能含有氯離子或硫酸根離子)于潔凈的鍍槽中,加熱至45oC~50oC左右。
②在連續(xù)攪拌下逐步加入所需的鉻酐。
③在連續(xù)攪拌下分別加入所需量的ST927—EK和硫酸。
④將溶液攪勻后,加入去離子水至蕞終體積。驗證槽液的濃度,必要時予以調(diào)整。
⑤加熱溫度至55~65oC。加入適量經(jīng)本公司認可的抑霧劑。
⑥電解3~4小時后即可試鍍。