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磁控濺射鍍膜機
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真空鍍膜機利用這種濺射方法在基體上沉積薄膜是1877年問世的。但是,利用這種方法沉積薄膜的初期存在著濺射速率低,成膜速度慢,并且必須在裝置上設(shè)置高壓和通入惰性氣體等一系列問題。因此,發(fā)展緩慢險些被淘汰。鍍膜設(shè)備原理及工藝前處理(清洗工序)要獲得結(jié)合牢固、致密、無針1孔缺陷的膜層,必須使膜層沉積在清潔、具有一定溫度甚至是的基片上。只是在化學(xué)活性強的金屬、難容金屬、介質(zhì)以及化合物等材料上得到了少量的應(yīng)用。直到20世紀70年代,由于磁控濺射及時的出現(xiàn),才使濺射鍍膜得到了迅速的發(fā)展,開始走入了復(fù)興的道路。這是因為磁控濺射法可以通過正交電磁場對電子的約束,增加了電子與氣體分子的碰撞概率,這樣不但降低了加在陰極上的電壓,而且提高了正離子對靶陰極的濺射速率,減少了電子轟擊基體的概率,從而降低了它的溫度,即具備了;高速、低溫的兩大特點。到了80年代,雖然他的出現(xiàn)僅僅十幾年間,它就從實驗室中脫穎而出,真正地進入了工業(yè)大生產(chǎn)的領(lǐng)域。而且,隨著科學(xué)技術(shù)的進一步發(fā)展,近幾年來在濺射鍍膜領(lǐng)域中推出了離子束增強濺射,采用寬束強流離子源結(jié)合磁場調(diào)制,并與常規(guī)的二極濺射相結(jié)合組成了一種新的濺射模式。而且,又將中頻交流電源引入到磁控濺射的靶源中。這種被稱為孿生靶濺射的中頻交流磁控濺射技術(shù),不但消除了陽極的;消失;效應(yīng)。而且,也解決了陰極的問題,從而極大地提高了磁控濺射的穩(wěn)定性。為化合物薄膜制備的工業(yè)化大生產(chǎn)提供了堅實的基礎(chǔ)。近年來急速鍍膜的復(fù)興與發(fā)展已經(jīng)作為人們炙手可熱的一種新興的薄膜制備技術(shù)而活躍在真空鍍膜的技術(shù)領(lǐng)域中。
濺射鍍膜機濺射鍍技術(shù)優(yōu)點
濺射鍍膜機濺射鍍技術(shù)應(yīng)用 蒸發(fā)和磁控濺射兩用立式裝飾鍍膜機,主要適用于塑料、陶瓷、玻璃金屬材料表面鍍制金屬化裝飾膜。鍍一層薄薄的膜加工工藝中的塑料薄膜薄厚勻稱性,堆積速度,靶材使用率等層面的難題是具體生產(chǎn)制造中非常關(guān)心的。由于鍍膜室為立式容器,所以它具有臥式鍍膜機的一切優(yōu)點, 又利于自重較大的、易碎的鍍件裝卡,更可方便地實現(xiàn)自動生產(chǎn)線,是替代傳統(tǒng)濕法水電鍍的更為理想的新一代真空鍍膜設(shè)備。本機鍍部分產(chǎn)品可不做底油。本機主 要特點配用改進型高真空排氣系統(tǒng),抽速快、、節(jié)電、降噪和延長泵使用壽命;實現(xiàn)蒸發(fā)、磁控濺射、自動控制,操作簡單,工作可靠。
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磁控濺射鍍膜機原理
由此可見,濺射過程即為入射離子通過一系列碰撞進行能量交換的過程,入射離子轉(zhuǎn)移到逸出的濺射原子上的能量大約只有原來能量的1%,大部分能量則通過級聯(lián)碰撞而消耗在靶的表面層中,并轉(zhuǎn)化為晶格的振動。服裝裝飾設(shè)計應(yīng)用領(lǐng)域,例如各種各樣光的反射鍍一層薄薄的膜及其透明色鍍一層薄薄的膜,可可用在手機殼、電腦鼠標(biāo)等商品上。濺射原子大多數(shù)來自靶表面零點幾納米的淺表層,可以認為靶材濺射時原子是從表面開始剝離的。如果轟擊離子的能量不足,則只能使靶材表面的原子發(fā)生振動而不產(chǎn)生濺射。如果轟擊離子能量很高時,濺射的原子數(shù)與轟擊離子數(shù)之比值將減小,這是因為轟擊離子能量過高而發(fā)生離子注入現(xiàn)象的緣故。
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目前國內(nèi)窗膜行業(yè)的批發(fā)商及終端店很多人都吃過磁控鍍銀膜氧化的虧,產(chǎn)品賣出后幾個月,開始大面積氧化,需要賠償,甚至還失去了客戶。特別是NSN系列在13、14年出的問題特別多,搞得很多人談磁控膜色變的地步。而在15、16年后,問題得到解決。慢慢地就沒多少氧化問題出現(xiàn)了。該方法的缺點是不能制備絕緣體膜,而且磁控電極中采用的不均勻磁場會使靶材產(chǎn)生顯著的不均勻刻蝕,導(dǎo)致靶材利用率低,一般僅為20%-30%。這也讓很多剛接觸磁控膜的人以為磁控膜都是鍍銀的膜,一說磁控膜就問會不會氧化。其實大可不必擔(dān)心,大部分的側(cè)檔都不是銀的,請放心使用。且這兩年的技術(shù)進步,國內(nèi)各磁控工廠也找到了解決氧化的方法。其實在玻璃鍍膜行業(yè),早就解決了氧化問題,我記得早期的low-e玻璃在鍍膜后必須在24小時內(nèi)合成中空,不然就會氧化。當(dāng)時low-e與中空都是鍍膜廠做的,下邊玻璃加工廠根本無法介入,而現(xiàn)在鍍膜廠只需生產(chǎn)玻璃鍍膜原片。且玻璃原片爆露在空氣中可達6個月以上,都不會氧化。這樣中空玻璃,一些門窗廠,幕墻公司、小規(guī)模的玻璃深加工工廠,都可以生產(chǎn)low-e中空玻璃了,加上政府政策的支持與引導(dǎo),大大的加快了low-e玻璃的發(fā)展與普及。做窗膜磁控濺射鍍膜的應(yīng)多去看看玻璃行業(yè)的low-e鍍膜,多些交流。畢竟生產(chǎn)原理是一樣的東西,技術(shù)是相通的。很多東西是可以套用的,low-e鍍膜得到了規(guī)?;陌l(fā)展,技術(shù)工藝已非常成熟了。窗膜磁控濺射鍍膜終是要與玻璃配套的,如何與玻璃上直接鍍膜做差異化發(fā)展,才是正道。就目前來說,僅從隔熱性能、保溫性能上與玻璃對抗,是不可能有成本上優(yōu)勢的。但都是鍍膜,如何做差異化,我目前也只是拋磚引玉,只有大家一起開動腦袋了。