馬鞍山AF真空鍍膜設(shè)備廠家值得信賴「至成真空科技」

真空鍍膜機(jī)泵有哪幾種類型

很多人對(duì)真空鍍膜機(jī)很了解，對(duì)真空鍍膜機(jī)泵卻接觸很少，也不知道真空鍍膜機(jī)泵到底有啥作用，分那幾類，下面為大家詳細(xì)介紹一下，真空鍍膜機(jī)泵有幾大類，它們各自原理是怎樣的。真空鍍膜機(jī)有三個(gè)泵的：機(jī)械泵（一般是油旋轉(zhuǎn)泵），增壓泵又叫羅茨泵，高真空泵（擴(kuò)散泵或者分子泵）。

機(jī)械泵是從大氣開(kāi)始工作的，機(jī)械泵排氣的效果還與電機(jī)的轉(zhuǎn)速及皮帶的松緊度有關(guān)系，當(dāng)電機(jī)的皮帶比較松，電機(jī)轉(zhuǎn)速很慢的時(shí)候，機(jī)械泵的排氣效果也會(huì)變差，所以要經(jīng)常保養(yǎng)，點(diǎn)檢，機(jī)械泵油的密封效果也需要常常點(diǎn)檢，油過(guò)少，達(dá)不到密封效果，泵內(nèi)會(huì)漏氣，油過(guò)多，把吸氣孔堵塞，無(wú)法吸氣和排氣，一般，在油位在線下0.5厘米即可。

增壓泵，它是具有一對(duì)同步高速旋轉(zhuǎn)的雙葉形或多葉形轉(zhuǎn)子的機(jī)械泵，由于它的工作原理與羅茨鼓風(fēng)機(jī)相同，所以又可以叫羅茨真空泵，此泵在100-1帕壓強(qiáng)范圍內(nèi)有較大的抽氣速度，它彌補(bǔ)了機(jī)械泵在此范圍內(nèi)排氣能力不足的缺點(diǎn)，此泵不能從大氣開(kāi)始工作，也不能直接排出大氣，它的作用僅僅是增加進(jìn)氣口和排氣口之間的壓差，其余的則需要機(jī)械泵來(lái)完成，因此，它必須配以機(jī)械泵作為前級(jí)泵。

油擴(kuò)散泵,機(jī)械泵的極限真空只有10-2帕，當(dāng)達(dá)到10-1帕的時(shí)候，實(shí)際抽速只有理論的1/10，如果要獲得高真空的話，必須采用油擴(kuò)散泵。

引起鍍膜玻璃膜層不均勻原因有哪些

由于殘余氣體的存在，不但影響膜的純度及質(zhì)量，還會(huì)產(chǎn)生。所以在生產(chǎn)中要選用高純度的氣為工作氣體，嚴(yán)格控制真空室的漏氣速率，以減小殘余氣體對(duì)原片及膜層的污染。將殘余氣體的壓力控制在10Pa以下，要經(jīng)常清理加熱室、玻璃過(guò)渡室、濺射室的環(huán)境，減少擴(kuò)散泵返油對(duì)玻璃的污染。同時(shí)可適當(dāng)提高陰極的濺射功率，以增加粒子動(dòng)能及擴(kuò)散能力，這將有利于清除被鍍膜玻璃表面的殘留物質(zhì)，減少鍍膜玻璃的。鍍膜玻璃膜的膜層均勻度一般地講，同一基片上膜層厚薄不同，就稱之為膜層不均勻。引起鍍膜玻璃膜層不均勻的原因是多方面的。磁控濺射靶的水平磁場(chǎng)強(qiáng)度（B）對(duì)膜層均勻度的影響磁控濺射的關(guān)鍵參數(shù)之一是與電場(chǎng)垂直的水平磁場(chǎng)強(qiáng)度B，因?yàn)樗酱艌?chǎng)強(qiáng)度B要求在陰極靶的表面是一個(gè)均勻的數(shù)值。而實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中值是隨著使用方法及時(shí)間的推移，產(chǎn)生一定的變化，而出現(xiàn)不均勻現(xiàn)象。我們從濺射過(guò)的陰極靶材的刻蝕區(qū)的變化情況就可以驗(yàn)證。

AF光學(xué)鍍膜機(jī)

裝飾性：無(wú)論對(duì)于手機(jī)等數(shù)碼產(chǎn)品，還是電器、衛(wèi)浴等有相同裝飾性要求的產(chǎn)品，通過(guò)底層鍍制顏色膜和透明介質(zhì)多層膜實(shí)現(xiàn)多種色彩、色調(diào)和金屬光澤，并能配合絲印、熱轉(zhuǎn)印、鐳雕和拉絲工藝，得到多種色調(diào)的炫彩光澤，加強(qiáng)條紋和圖案的立體視覺(jué)。

膜層系列：AF防指印膜層、顏色膜 AF：品質(zhì)：擦傷測(cè)試及水滴角指標(biāo)：初始水滴角115-120度，擦傷測(cè)試（#0000鋼絲絨、1KG壓力、10*10MM摩擦接觸面積、40-60RPM摩擦周期、40-60MM摩擦行程、摩擦次數(shù)2000次）后，滴角108-116度。表面硬度以日本旭硝子玻璃鋼化蓋板為例，9HMax.鉛筆硬度。

磁控濺射鍍膜設(shè)備如何使用效率才高?

磁控濺射鍍膜設(shè)備如何使用效率才高？ 這就需要增加氣體的理化效率。增加氣體的離化效率能夠有效的提高濺射的效率。 通常在健身過(guò)程中，經(jīng)過(guò)加速的入射離子轟擊靶材陰極表面的時(shí)候，會(huì)產(chǎn)生電子發(fā)射，而這些在陰極表面產(chǎn)生的電子開(kāi)始向陽(yáng)極加速進(jìn)入負(fù)輝光區(qū)，和中性氣體原子進(jìn)行碰撞，產(chǎn)生的自持的輝光放電所需離子。電子在平均只有程隨著電子能量的增大而增大，隨著氣壓的增大而減小，特別是在遠(yuǎn)離陰極的地方產(chǎn)生，它們的熱壁損失也是非常大的，這主要是因?yàn)槠潆x化效率低。 因此可以加上一平行陰極表面的磁場(chǎng)就能夠?qū)⒊跏茧娮酉拗圃陉帢O范圍內(nèi)，能夠有效的增加氣體原子的梨花效率，從而提高磁控濺射鍍膜設(shè)備的濺射效率。