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佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業(yè)生產廠家，公司秉承“以質取勝，求真務實，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解,我們將為你的產品錦上添花.

真空鍍膜之多弧離子鍍 ：

電弧電流一般為幾安至幾百安,工作電壓為10-25V,這時陰極表面的全部電流集中在一個或多個很小的部位 , 形成明亮的陰極弧斑 , 陰極弧斑的直徑為0.01-100um, 并以高達100m/s的速度在陰極靶表面隨機運動 , 也可以利用磁場控制陰極弧斑的運動。在陰極弧斑的前方是高密度的金屬等離子體, 由于電子向陽極快速移動而使陰極斑點前方出現離子堆積即形成正空間電荷 , 從而在陰極附近形成極強的電場, 導致場電子發(fā)射以維持弧光放電。濺射的工件為陽極，靶為陰極，利用原子的濺射作用把靶材原子擊出而沉積在工件表面上，沉積原子的能量由被濺射原子的能量分布決定。

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鍍膜工藝流程中工藝參數的控制和對膜層沉積的影響：

金屬過渡層：過渡層能有效的減小膜-基或不同鍍層間因材料熱膨脹系數等物理性能不同而形成的應力，提高結合力，但是金屬過渡層太厚容易引起基體軟化，結合力反而會變差。

鍍膜工藝流程中工藝參數的控制和對膜層沉積的影響

靶基距：靶基距是影響成膜速率的重要因素之一，隨著靶基距增加，被濺射材料射向基片時與氣體分子碰撞的次數增多，同時等離子體密度也減弱，動能減少，沉積速率降低，但膜層外觀較好。靶基距太小，沉積太快，工件溫升大，膜層外觀差。

靶功率；磁控濺射本身粒子初始動能比較小，離化率低，電源功率越大，濺射出的粒子的初始能量越大，靶材濺射量也越大，沉積速率越快，膜層容易上厚度和硬度，同時工件溫升也大，過高的功率會使沉積速率太快，粒子來不及表面遷移和擴散，易形成陰影效應，膜層會比較疏松，應力較大。普通真空鍍膜時，蒸發(fā)料粒子大約只以一個電子伏特的能量向工件表面蒸鍍，在工件表面與鍍層之間，形成的界面擴散深度通常僅為幾百個埃（10000埃=1微米=0。

真空鍍膜的形式：蒸發(fā)鍍膜

工藝原理：

4）沉積原子之間產生兩維碰撞，形成簇團，有的在表面停留一段時間后再蒸發(fā)；

5）原子簇團與擴散原子相碰撞，或吸附單原子，或放出單原子，這種過程反復進行；

6）當原子數超過某一臨界值時就變?yōu)榉€(wěn)定核，再不斷吸附其他擴散原子而逐步長大，后與鄰近穩(wěn)定核合并進而變成連續(xù)膜。