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實(shí)驗(yàn)室供氣系統(tǒng)氣體管路

實(shí)驗(yàn)室供氣管路系統(tǒng)工程主要是為試實(shí)驗(yàn)室選用的分析設(shè)備提供量值和壓力穩(wěn)定的標(biāo)準(zhǔn)氣體，保證其儲(chǔ)存和使用的安全性。有部分氣體具有毒、強(qiáng)腐蝕等特性，其一旦泄漏，就可能會(huì)對(duì)工作人員及儀器設(shè)備造成傷害。保障分析測(cè)試人員在實(shí)驗(yàn)中免受有毒有害氣體的侵害。按照國(guó)標(biāo)要求，將所用全部氣體存放于儲(chǔ)氣間，并實(shí)現(xiàn)集中輸送，組成中央供氣系統(tǒng)。系統(tǒng)采用一拖一、一拖多、多拖一和多拖多的管道式輸氣方式，在一拖多時(shí)能夠?qū)崿F(xiàn)分段控制和在多拖一和多拖多時(shí)能夠?qū)崿F(xiàn)切換控制；并能夠保證標(biāo)準(zhǔn)氣體流量、壓力穩(wěn)定和量值傳遞不發(fā)生變化，滿足分析檢測(cè)設(shè)備對(duì)使用氣體的技術(shù)要求。

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大宗特氣供氣系統(tǒng)介紹

大宗特氣供氣系統(tǒng)主要針對(duì)大規(guī)模量產(chǎn)的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大規(guī)模集成電路廠（氣體種類包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太陽(yáng)能電池生產(chǎn)線（氣體種類包括NH3），發(fā)光二極管的磊晶工序線（氣體種類包括NH3）、5代以上液晶顯示器工廠（氣體種類包括4、3、NF3）、光纖（氣體種類包括SiCl4）、硅材料外延生產(chǎn)線（氣體種類包括HCL）等行業(yè)。不應(yīng)在封閉空間內(nèi)用惰性氣體（如氮?dú)狻⒍趸嫉龋┻M(jìn)行實(shí)驗(yàn)分析、燒焊、低溫冷藏、吹除等等。它們的投資規(guī)模巨大，采用1先進(jìn)的工藝制程設(shè)備，用氣需求量大，對(duì)穩(wěn)定和不間斷供應(yīng)、純度控制和安全生產(chǎn)提出嚴(yán)格的要求。

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試驗(yàn)室集中供氣系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)

針對(duì)過(guò)去使用中存在的問(wèn)題，現(xiàn)代試驗(yàn)室對(duì)載氣的使用環(huán)境進(jìn)行了改革，即 “集中供氣系統(tǒng)”，即將使用氣體（以下簡(jiǎn)稱載氣）集中貯存，然后通過(guò)壓差的原理將氣體經(jīng)過(guò)金屬或其他材質(zhì)管路送至用氣點(diǎn)。其優(yōu)點(diǎn)主要有以下幾點(diǎn)：

1、首先解決氣瓶的放置問(wèn)題。氣瓶間的位置如果可能盡量位于與試驗(yàn)室相對(duì)獨(dú)立的房間，如果與試驗(yàn)室在同一大樓內(nèi)，則氣瓶間的位置要盡量位于人1流較少并且獨(dú)立的房間，這種方式可使氣瓶與工作人員及儀器完全隔離，即使有害氣體有泄漏，也不會(huì)發(fā)生直接傷害。以上內(nèi)容由艾明坷為您提供，今天我們來(lái)分享的是高純供氣系統(tǒng)的相關(guān)內(nèi)容，希望對(duì)您有所幫助。

2、其次氣體混合的問(wèn)題。將所有載氣氣瓶根據(jù)氣體性質(zhì)分別集中在一個(gè)氣瓶間中與助燃?xì)怏w分開(kāi)存貯。

3、再次是解決氣瓶壓力的問(wèn)題。每種氣體可以將多瓶氣體并聯(lián)然后通過(guò)一個(gè)出口統(tǒng)一減壓后運(yùn)送氣體至使用點(diǎn)。2、經(jīng)濟(jì)性：建一個(gè)集中的氣瓶間可以節(jié)省有限的試驗(yàn)室空間，更換氣瓶時(shí)不需要切斷氣體，保證氣體的連續(xù)供應(yīng)。因?yàn)闅馄块g是相對(duì)獨(dú)立的，整個(gè)氣路系統(tǒng)壓力1大的地方也是氣瓶出口處，因此這種方式將氣瓶壓力可能發(fā)生的危險(xiǎn)縮小至氣瓶間內(nèi)，可對(duì)人體及儀器的傷害可降到1低。

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氦質(zhì)譜檢漏儀

隨著科技的迅猛發(fā)展，氦質(zhì)譜檢漏儀及其應(yīng)用技術(shù)也在不斷發(fā)展和究善。各國(guó)的設(shè)備廠商相繼推出了多種類烈的氦質(zhì)譜檢漏儀，廣泛應(yīng)用丁航空航天，電力電子，汽車等各個(gè)行業(yè)，綜觀1新氦質(zhì)譜檢漏儀的性能特點(diǎn)發(fā)現(xiàn)，氦質(zhì)譜檢漏儀正向著高靈敏度、自動(dòng)化、寬程、等先進(jìn)方向發(fā)展，這些特點(diǎn)很好地滿足了當(dāng)前檢漏應(yīng)用的需求，也極大地1推動(dòng)了氮質(zhì)譜檢漏技術(shù)的不斷發(fā)展。多種氣體在同一個(gè)環(huán)境下使用，如果有兩種會(huì)發(fā)生燃燒或爆1炸等強(qiáng)烈化學(xué)反應(yīng)的氣體同時(shí)泄漏，就可能對(duì)工作人員以及儀器設(shè)備造成傷害。