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蒸發(fā)真空鍍膜機的原理及性能,你了解多少?

今天至成鍍膜機真空小編要為大家講的是蒸發(fā)真空鍍膜機的原理和性能，前一段時間還有一個新人問我這方面問題，今天我就把我的知道的闡述出來，和大家一起成長和提升。

在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

通過加熱蒸發(fā)某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法早由M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術之一。蒸發(fā)鍍膜與其他真空鍍膜方法相比，具有較高的沉積速率，可鍍制單質和不易熱分解的化合物膜。用作真空蒸發(fā)鍍的裝置稱為蒸發(fā)鍍膜機。

鍍膜前后的效果有哪些區(qū)別

沒有做涂層時的問題：(1)鏡面很容易亂花，甚至做表面清潔時用柔軟的紙巾擦拭也會亂花(2)使用不到半個月鏡面就亂花或變霧(3)反復多次拆卸拋光，不僅成本高昂，而且嚴重影響生產效率，甚至無法正常交貨給客人

通過鏡面塑膠模具涂層鍍膜設備鍍膜后：(1)鏡面完全沒有受損：光亮度沒有下降、沒有產生小白點或其它花紋等(2)由于涂層后表面硬度的提高，在做模具保養(yǎng)時，用紙巾擦拭，甚至手碰到模具，都不用擔心表面亂花(3)使用時間提高到半年，甚至1年以上(4)在涂層磨損后，仍然可以褪去涂層，再拋光重鍍再使用(5)無論生產效率，還是成本效益，都取得了很好的收益

詳解手機行業(yè)的PVD鍍膜技術

詳解手機行業(yè)的PVD鍍膜技術 PVD是英文PhysicalVaporDeition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。 PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對應于PVD技術的三個分類，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機這三種。近十多年來，真空離子鍍膜技術的發(fā)展是快的，它已經成為當今先進的表面處理方式之一。我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜;通常所說的PVD鍍膜機，指的也就是真空離子鍍膜機。 PVD鍍膜(離子鍍膜)技術，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質及其反應產物沉積在工件上。

真空鍍膜設備離子鍍膜上的創(chuàng)新方法

真空鍍膜設備離子鍍膜上的創(chuàng)新方法 真空鍍膜設備多弧離子鍍膜上的創(chuàng)新方法，所謂多弧離子鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于室內，真空鍍膜機多弧離子鍍膜采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。 多弧離子鍍膜的方法，在條件下成膜有很多優(yōu)點，可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學反應（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。