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不銹鋼真空鍍鈦產(chǎn)品的日常保養(yǎng)
5、表面若被漂白劑或者酸附著,立即用水沖洗,再用或中性碳酸蘇打水溶液浸洗,用中性洗滌劑或溫水洗滌。
6、表面有彩虹紋,是過多使用洗滌劑或油引起,洗滌時(shí)用溫水中性洗滌劑可洗去。
7、禁止使用含漂白成分以及研磨劑的洗滌液、鋼絲球、研磨工具等來清洗,為避免殘余洗滌液,腐蝕表面,洗滌結(jié)束時(shí)要用潔凈水沖洗表面。
8、禁止產(chǎn)品接觸強(qiáng)酸強(qiáng)堿的化學(xué)物品。
PVD加工特點(diǎn)
1).PVD膜層能直接鍍?cè)诓讳P鋼以及硬質(zhì)合金上,對(duì)比較軟的鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應(yīng)先進(jìn)行化學(xué)電鍍鉻,然后才適合鍍PVD,但是水鍍后做PVD容易起泡,不良率較高;
2).典型的 PVD 涂層加工溫度在 250 ℃—450 ℃之間;
3).涂層種類和厚度決定工藝時(shí)間,一般工藝時(shí)間為 3~6 小時(shí);
4).PVD鍍膜膜層的厚度為微米級(jí),厚度較薄,一般為0.3μm~5μm,其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm~1μm,因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能,并能夠維持工件尺寸基本不變,鍍后不須再加工;根據(jù)膜層粒子的獲得方式,離子鍍可分為蒸發(fā)型離子鍍和濺射型離子鍍,其中蒸發(fā)型離子鍍根據(jù)放電原理不同又可分為直流二級(jí)型離子鍍、熱絲弧離子鍍、空心陰極離子鍍以及熱陰極離子鍍等。
磁控濺射是70年代在陰極濺射的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種新型濺射鍍膜法,由于它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的致命弱點(diǎn),因此獲得了迅速的發(fā)展和廣泛的應(yīng)用.
1. 磁控濺射:
離子轟擊靶材將靶面原子擊出的現(xiàn)象稱為濺射.濺射產(chǎn)生的原子沉積在基體(工件)表面即實(shí)現(xiàn)濺射鍍膜.
磁控濺射的基本原理:
磁控濺射是在濺射區(qū)加了與電場(chǎng)方向垂直的磁場(chǎng),處于正交電場(chǎng)區(qū)E和磁場(chǎng)B中的電子的運(yùn)動(dòng)方程,