河源真空鍍膜設(shè)備廠家信賴推薦 至成鍍膜設(shè)備廠家供應(yīng)

什么是真空鍍膜技術(shù)？

所謂真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。

在真空條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn)：可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa，對(duì)于蒸發(fā)源與基板距離較遠(yuǎn)和薄膜質(zhì)量要求很高的場(chǎng)合，則要求壓力更低。

真空鍍膜機(jī)工件除氣的必要性和真空鍍膜機(jī)分類介紹

真空狀態(tài)是支持真空鍍膜機(jī)運(yùn)作的環(huán)境，特別是需要高真空度的設(shè)備，通常我們需要達(dá)到高真空度，抽氣系統(tǒng)的作用是功不可沒的，但除了抽氣系統(tǒng)外，在真空鍍膜設(shè)備運(yùn)行的過程中，還有一點(diǎn)就是，工件的除氣。

有些工件它本身內(nèi)部存在著很多的氣體、水分等，這些物質(zhì)都會(huì)隨著設(shè)備加熱時(shí)被排放到真空室中，降低了真空度，更甚者，有些氣體帶有毒性成分，直接損害到真空室內(nèi)部機(jī)械結(jié)構(gòu)，造成設(shè)備不能正常運(yùn)作。另外，正在鍍膜過程中，由于工件內(nèi)氣體加熱膨脹，容易使已經(jīng)鍍上的膜層裂開，當(dāng)然這個(gè)情況出現(xiàn)的機(jī)率視工件本身物理性質(zhì)有關(guān)，像塑料等容易膨脹的，機(jī)率就比較高，像金屬等硬質(zhì)的，機(jī)率就比較低，但也不能忽視，因此工件的除氣是非常必要的。

通常我們使用的工件除氣方法是烘烤，通過加熱把工件內(nèi)的氣體、水分排出，在鍍膜前，抽氣的同時(shí)，對(duì)工件進(jìn)行加熱，當(dāng)工件內(nèi)水分和氣體由于加熱而放出后，隨著真空室內(nèi)的氣體一起被真空泵抽出。

針對(duì)不同的工件采取不一樣的除氣措施，有效控制工件內(nèi)部氣體與水分排放，提高鍍膜的穩(wěn)定性和均勻性。真空鍍膜機(jī)分類和適用范圍真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

真空鍍膜設(shè)備的正常工作條件

1.環(huán)境溫度：10~30℃

2.相對(duì)濕度：不大于70%

3.冷卻水進(jìn)水溫度：不高于25℃

4.冷卻水質(zhì)：城市自來水或質(zhì)量相當(dāng)?shù)乃?

5.供電電壓：380V，三相50Hz或220V，單相50Hz，電壓波動(dòng)范圍342~399V或198V~231V，頻率波動(dòng)范圍49~51Hz；

6.設(shè)備所需的壓縮空氣、液氮、冷熱水等壓力、溫度、消耗量均應(yīng)在產(chǎn)品使用說明書上寫明。

7.設(shè)備周圍環(huán)境整潔、空氣清潔，不應(yīng)有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導(dǎo)電的塵?；驓怏w存在。