工業(yè)氫氟酸生產(chǎn)廠家優(yōu)選企業(yè)

 儲存注意事項： 儲存于陰涼、通風的庫房。遠離火種、熱源。庫溫不超過30℃，相對濕度不超過85%。保持容器密封。應與堿類、活性金屬粉末、玻璃制品分開存放，切忌混儲。儲區(qū)應備有泄漏應急處理設備和合適的收容材料。當洗去殘余的氫氟酸，刮掉石蠟后，玻璃器皿上就留下了美麗的花紋。在量筒、滴定管等玻璃化學儀器內(nèi)表面進行刻度或加字，也是采用這種方法。泄漏：迅速撤離泄漏污染區(qū)人員至安全區(qū)，并進行隔離，嚴格限制出入。建議應急處理人員戴自給正壓式呼吸器，穿防酸堿工作服。不要直接接觸泄漏物。盡可能切斷泄漏源，防止進入下水道、排洪溝等限制性空間。

含CaF2>97％、S1O2<1%、CaCO3<1.2％的制酸級螢石經(jīng)干燥、篩分至粒度<150um后與98％濃1硫酸按1:1.2-1.3配比送入轉(zhuǎn)窯內(nèi)進行反應。

   轉(zhuǎn)窯前段溫度為160-180℃，后段為220-280℃，窯內(nèi)氣相溫度控制在280℃±10℃。反應生成的硫酸1鈣由窯尾排出。反應生成的氣體含有少量水蒸汽、硫酸霧、二氧1化硫、四氯1化硅、升華硫、二氧化碳氣體以及未反應的螢石、硫酸鈣粉塵等。它由窯頭排出后，再進入粗餾塔、塔釜溫度控制在100-110℃，塔頂溫度控制在35-40℃，以除去大部分硫酸、水蒸汽和硫酸鈣、螢石粉塵等。然后氟化1氫氣體進入脫氣塔，塔釜溫度控制在20-30℃，塔頂溫度為-7℃－9℃，未被冷凝的二氧1化硫和四氟1化硅等低沸點雜質(zhì)由塔頂排出，粗氟化1氫冷凝成液態(tài)，然后進入精餾塔，塔釜溫度控制在3-40℃，塔頂溫度控制在19.6±0.5℃，以進一步除去殘存的少量硫酸和水，經(jīng)精餾凈化后可得99.8％或更高純度的無水氫氟酸。

眾所周知，氫氟酸會完全破壞搪玻璃容器。甚至在濃度只有20PPM時，在酸環(huán)境中的氟化物對玻璃有一個破壞的作用，特別是在重復添加如氫氟酸這樣的氟化物的連續(xù)反應中。氫氟酸與二氧化硅（玻璃中的主要成分）的反應。以蒸汽的狀態(tài)形成含有四氟1化硅和水破壞二氧化硅結構。SIF4 ，水溶解成SIO2和H2SIF6（氫氟1硅酸），其被冷凝水吸收。當污染的冷凝水到達受熱的有蒸汽的容器壁時，其蒸發(fā)，沉淀SIO2，釋放H2SIF6，然后，分解成SIF4 HF。然后，隨著不斷補充氫氟酸，其自身的重復連鎖反應。因此，腐蝕出現(xiàn)在液體狀態(tài)中，以及在蒸汽中的較冷區(qū)域，在這里，充滿氟化物的蒸汽會冷卻。