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真空鍍膜系統(tǒng)
工藝氣體輸入系統(tǒng)
工藝氣體,如氣(Ar)、氣(Kr)、氮氣(N2)、(C2H2)、(CH4)、氫氣(H2)、氧氣(O2)等,一般均由氣瓶供應(yīng),經(jīng)氣體減壓閥、氣體截止閥、管路、氣體流量計、電磁閥、壓電閥,然后通入真空室。這種氣體輸入系統(tǒng)的優(yōu)點是,管路簡捷、明快,維修或更換氣瓶容易。各涂層機之間互不影響。也有多臺涂層機共用一組氣瓶的情況,這種情況在一些規(guī)模較大的涂層車間可能有機會看到。它的好處是,減少氣瓶占用量,統(tǒng)一規(guī)劃、統(tǒng)一布局。缺點是,由于接頭增多,使漏氣機會增加。而且,各涂層機之間會互相干擾,一臺涂層機的管路漏氣,有可能會影響到其他涂層機的產(chǎn)品質(zhì)量。此外,更換氣瓶時,必須保證所有機臺都處于非用氣狀態(tài)。
真空鍍膜機的檢漏方法
真空鍍膜機廠家查看漏氣狀況是確保真空鍍膜機真空度的一項查看辦法,簡稱檢漏,真空度的凹凸是直接影響到鍍膜作用的,所以檢漏是的。
通常真空室內(nèi)漏氣都是從室壁上的一些小孔或部件之前的銜接位細(xì)縫中發(fā)生,當(dāng)抽氣系統(tǒng)抽氣后使真空室內(nèi)壓強降低,外部與內(nèi)部的壓強差使氣體從壓強高的外部流向壓強低的真空室內(nèi),形成真空度降低。
真空鍍膜機廠家介紹在檢漏的過程中,需求注意一些問題,才能把檢漏作業(yè)做好。為真空鍍膜設(shè)備做好檢漏作業(yè)是很主要的,形成真空度降低的緣由多種多樣,咱們要逐個的處理這些緣由,安穩(wěn)鍍膜的作用。
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真空鍍膜系統(tǒng)
電子束蒸發(fā)源蒸鍍法
將蒸發(fā)材料放入水坩鍋中,直接利用電子束加熱,使蒸發(fā)材料氣化蒸發(fā)后凝結(jié)在基板表面成膜,是真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)中的一種重要的加熱方法和發(fā)展方向。電子束蒸發(fā)克服了一般電阻加熱蒸發(fā)的許多缺點,特別適合制作熔點薄膜材料和高純薄膜材料。
依靠電子束轟擊蒸發(fā)的真空蒸鍍技術(shù),根據(jù)電子束蒸發(fā)源的形式不同,又可分為環(huán)形,直,e型和空心陰極電子等幾種。
環(huán)形是由環(huán)形的陰極來發(fā)射電子束,真空鍍膜報價,經(jīng)聚焦和偏轉(zhuǎn)后打在坩鍋內(nèi)使金屬材料蒸發(fā)。它的結(jié)構(gòu)較簡單,但是功率和效率都不高,基本上只是一種實驗室用的設(shè)備,目前在生產(chǎn)型的裝置中已經(jīng)不再使用。
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