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?PVD真空鍍膜真空鍍膜

PVD真空鍍膜過程的均勻性

PVD真空鍍膜過程非常復(fù)雜，由于鍍膜原理的不同分為很多種類，僅僅因為都需要高真空度而擁有統(tǒng)一名稱。所以對于不同原理的PVD真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。并且均勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。

薄膜均勻性的概念：

厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位，約為100A)，真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也就是說對于薄膜的光學(xué)特性來說，玻璃真空鍍膜，真空鍍膜沒有任何障礙。

通過真空鍍膜技術(shù)的應(yīng)用，使塑料表面金屬化，將有機材料和無機材料結(jié)合起來，大大提高了它的物理、化學(xué)性能。其優(yōu)點主要表現(xiàn)在

一、改善美觀，表面光滑，金屬真空鍍膜，金屬光澤彩色化，裝飾性大大提高；

二、改善表面硬度，原塑膠表面比金屬軟而易受損害，通過真空鍍膜，硬度及耐磨性大大增加；

三、提高耐候性，一般塑料在室外老化很快，主要原因是紫外線照射所致，而鍍鋁后，鋁對紫外線反射強，龍門真空鍍膜，因此，耐候性大大提高；

四、減少吸水率，鍍膜次數(shù)愈多，針i孔愈少，吸水率降低，制品不易變形，提高耐熱性；

五、使塑料表面有導(dǎo)電性；

六、容易清洗，不吸塵。

行業(yè)內(nèi)通常所說的“IP”（ion ting）離子鍍膜，是因為在PVD技術(shù)中各種氣體離子和金屬離子參與成膜過程并起到重要作用，為了強調(diào)離子的作 用，而統(tǒng)稱為離子鍍膜。真空鍍膜是一種產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項技術(shù)用于生產(chǎn)激光唱片（光盤）上的鋁鍍膜和由掩膜在印刷電路板上鍍金屬膜。

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