磁控濺射機-沈陽鵬程公司-磁控濺射機公司

線列式磁控生產(chǎn)線

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司生產(chǎn)、銷售磁控濺射產(chǎn)品，我們?yōu)槟治鲈摦a(chǎn)品的以下信息。

采用先進的in-line產(chǎn)線結(jié)構(gòu)，Twin-Mag孿生陰極磁控濺射技術(shù)，并配以全自動控制系統(tǒng)、先進的真空系統(tǒng)，磁控濺射機公司，可在玻璃襯底上鍍制SiO2、ITO、AZO、Al、Ni、Ti等各類絕緣介質(zhì)薄膜、金屬或合金薄膜，磁控濺射機報價，并可連續(xù)濺鍍多種不同材質(zhì)的薄膜構(gòu)成復(fù)合多膜層結(jié)構(gòu)，磁控濺射機價格，適合大規(guī)模光學(xué)、電學(xué)薄膜的生產(chǎn)，做到一機多用具有高能效、高可靠性、低成本的優(yōu)勢。

     本產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于觸摸屏ITO鍍膜、LCD顯示屏ITO鍍膜、薄膜太陽能電池背電極及AZO鍍膜、彩色濾光片鍍膜、電磁屏蔽玻璃鍍膜、AR鍍膜、裝飾鍍膜等產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域。

濺射鍍膜的特點

濺射就是從靶表面撞擊出原子物質(zhì)的過程。濺射產(chǎn)生的原子或分子沉積到基體(零件)表面的過程就是濺射鍍膜。

濺射鍍膜與真空鍍膜相比，有如下特點:

1.任何物質(zhì)都可以濺射， 尤其是高熔點金屬、低蒸氣壓元素和化合物;

2.濺射薄膜與襯底的附著性好;

3.濺射鍍膜的密度高，孔少，膜層純度高;

4.膜層厚度可控性和重復(fù)性好。

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什么是磁控濺射？

磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點。上世紀(jì) 70 年代發(fā)展起來的磁控濺射法更是實現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射，磁控濺射機，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

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磁控濺射機-沈陽鵬程公司-磁控濺射機公司由沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司提供。沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為客戶提供“電阻熱蒸發(fā)鍍膜，磁控濺射，激光脈沖沉積，電子束”等業(yè)務(wù)，公司擁有“鵬程真空”等品牌，專注于成型設(shè)備等行業(yè)。，在沈陽市沈河區(qū)凌云街35號的名聲不錯。歡迎來電垂詢，聯(lián)系人：董順。