磁控濺射鍍膜機(jī)公司值得信賴「沈陽(yáng)鵬程」

小型自動(dòng)磁控濺射儀

沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——專業(yè)磁控濺射產(chǎn)品供應(yīng)商，我們?yōu)槟鷰?lái)以下信息。

1. 濺射室極限真空度：≤6.6×10-6 Pa

2. 系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0×10-7Pa.l/S

3. 系統(tǒng)從大氣開(kāi)始抽氣：濺射室30分鐘可達(dá)到6.6×10-4 Pa；

4. 系統(tǒng)停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度：≤5Pa

5. 濺射真空室1套，立式上開(kāi)蓋結(jié)構(gòu)，尺寸不小于Ф300mm×300mm，全不銹鋼結(jié)構(gòu)，弧焊接，表面進(jìn)行電化學(xué)拋光，內(nèi)含防污內(nèi)襯，可內(nèi)烘烤到100～150℃，接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封，腔體內(nèi)有照明系統(tǒng)

6. 磁控濺射系統(tǒng) 3套， 提供3塊測(cè)試靶材。鍍膜不均勻度≤5%

7. 旋轉(zhuǎn)基片臺(tái) 1套，樣品臺(tái)可放置不小于100mm樣品1片，具有連續(xù)旋轉(zhuǎn)功能，旋轉(zhuǎn)0—30轉(zhuǎn)/分連續(xù)可調(diào)?；訜釡囟龋菏覝亍?00°C連續(xù)可調(diào)，由熱電偶閉環(huán)反饋控制，加熱電源配備控溫表，控溫方式為PID自動(dòng)控溫及數(shù)字顯示

8. 觀察窗口及法蘭接口部件 1套

9. 工作氣路1套，包含：100SCCM、20SCCM質(zhì)量流量控制器、CF16截止閥、管路、接頭等共2路； DN16充氣閥、管路、接頭等2路；

10. 抽氣機(jī)組及閥門、管道 1套，包含1臺(tái)進(jìn)口復(fù)合分子泵及變頻控制電源（680L/s ，德國(guó)普發(fā)Hipace700分子泵）；1臺(tái)機(jī)械泵（4L/S） ，1臺(tái)DN40氣動(dòng)截止閥，機(jī)械泵與真空室之間的旁抽管路1套，CC150氣動(dòng)閘板閥1臺(tái)（用于復(fù)合分子泵與真空室隔離），節(jié)流閥1臺(tái)，DN40旁抽氣閥1臺(tái)，壓差式充氣閥1臺(tái)；方便性：設(shè)備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式，接線及安裝調(diào)試簡(jiǎn)單，既保證了設(shè)備使用方便又保證了設(shè)備的整潔。管道采用不銹鋼三通及波紋管，

11. 安裝機(jī)臺(tái)架組件 1套，由方鋼型材焊接成，快卸圍板表面噴塑處理，機(jī)臺(tái)表面用不銹鋼蒙皮裝飾，四只腳輪，可固定，可移動(dòng)。

什么是磁控濺射？

磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。上世紀(jì) 70 年代發(fā)展起來(lái)的磁控濺射法更是實(shí)現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng)）形成薄膜。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng)，利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率。

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磁控濺射介紹

以下內(nèi)容由沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供，今天我們來(lái)分享磁控濺射產(chǎn)品的相關(guān)內(nèi)容，希望對(duì)同行業(yè)的朋友有所幫助！

用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點(diǎn)火和濺射很方便。這是因?yàn)榘校帢O），等離子體和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體（如陶瓷），則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強(qiáng)的電容，這樣在絕緣回路中靶材成了一個(gè)電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時(shí)接地技術(shù)很復(fù)雜，因而難大規(guī)模采用。1臺(tái)機(jī)械泵（4L/S），1臺(tái)DN40氣動(dòng)截止閥，機(jī)械泵與真空室之間的旁抽管路1套，CC150氣動(dòng)閘板閥1臺(tái)（用于復(fù)合分子泵與真空室隔離），節(jié)流閥1臺(tái)，DN40旁抽氣閥1臺(tái)，壓差式充氣閥1臺(tái)。為解決此問(wèn)題，發(fā)明了磁控反應(yīng)濺射。就是用金屬靶，加入氣和反應(yīng)氣體如氮?dú)饣蜓鯕?。?dāng)金屬靶材撞向零件時(shí)由于能量轉(zhuǎn)化，與反應(yīng)氣體化合生成氮化物或氧化物。

濺射鍍膜的特點(diǎn)

濺射就是從靶表面撞擊出原子物質(zhì)的過(guò)程。濺射產(chǎn)生的原子或分子沉積到基體(零件)表面的過(guò)程就是濺射鍍膜。

濺射鍍膜與真空鍍膜相比,有如下特點(diǎn):

1.任何物質(zhì)都可以濺射, 尤其是高熔點(diǎn)金屬、低蒸氣壓元素和化合物;

2.濺射薄膜與襯底的附著性好;

3.濺射鍍膜的密度高,孔少,膜層純度高;

4.膜層厚度可控性和重復(fù)性好。

以上就是為大家介紹的全部?jī)?nèi)容，希望對(duì)大家有所幫助。如果您想要了解更多磁控濺射產(chǎn)品的知識(shí)，歡迎撥打圖片上的熱線聯(lián)系我們。