韶關(guān)AF鍍膜設(shè)備免費(fèi)咨詢「至成真空科技」

說(shuō)起鍍膜機(jī)，大家耳熟能詳，但是說(shuō)起多功能真空鍍膜機(jī)，可能會(huì)了解的比較少，那具體為什么叫多工功能鍍膜機(jī)呢，是因?yàn)楣δ芏鄦?？那下面為大家詳?xì)介紹一下

多功能真空鍍膜機(jī)的技術(shù)和原理不管是真空鍍膜機(jī)，還是多功能真空鍍膜機(jī)工作環(huán)境，都是在真空環(huán)境下的，需要先抽真空，使真空室處于真空狀態(tài)，再進(jìn)行鍍膜；鍍膜完成后，需要向真空室充氣?，F(xiàn)有技術(shù)中，真空鍍膜機(jī)的充氣管道直接與外界連通，容易把外界空氣中的灰塵帶入真空室，導(dǎo)致鏡片上吸附灰塵，造成產(chǎn)品不良，工廠里使用的鍍膜機(jī)對(duì)于真空度的控制并不是很穩(wěn)定，導(dǎo)致生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)品的性能不夠穩(wěn)定，因此，解決生產(chǎn)過(guò)程中鍍膜機(jī)里的真空度不易控制的問(wèn)題尤為重要，而且內(nèi)部鍍膜物件的溫度高，需要及時(shí)降溫，提高工作效率。

高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備有哪些特點(diǎn)

真空蒸發(fā)鍍膜裝置，是在真空室中利用電阻加熱，將金屬鍍料熔融、汽化，讓金屬分子沉積在基片上，獲得光滑的高反射率的金屬膜層，達(dá)到裝飾美化物品表面的目的。真空蒸發(fā)鍍膜裝置，是在真空室中利用電阻加熱，將金屬鍍料熔融、汽化，讓金屬分子沉積在基片上，獲得光滑的高反射率的金屬膜層，達(dá)到裝飾美化物品表面的目的。

高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備具有結(jié)構(gòu)合理、抽速大、工作周期短、生產(chǎn)、操作方便，能耗低、工作穩(wěn)定，且膜層均勻、成膜質(zhì)量好等優(yōu)點(diǎn)。該設(shè)備主要廣泛應(yīng)用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、手機(jī)、反光杯、化妝品、玩具等行業(yè)。

可加工的材料包括：ABS、PS、PP、PVC、TPU、PC、尼龍、玻璃、陶瓷、金屬等。

可鍍基材表面狀態(tài)：電鍍亮面、啞光面（半啞、全啞）、工藝電鍍、拉絲、雨滴等；鍍制顏色有：金、銀、紅、藍(lán)、綠、紫、七彩等?？筛鶕?jù)用戶要求設(shè)計(jì)各種規(guī)格型號(hào)的真空鍍膜機(jī)。真空機(jī)組及電控系統(tǒng)也可根據(jù)用戶要求進(jìn)行設(shè)計(jì)配置。

減少真空鍍膜機(jī)中灰塵的方法

如今真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)在生活中隨處可見，但真空鍍膜機(jī)在日常使用中，經(jīng)常累積上一層灰塵，這影響到后期鍍膜的整體效果，那么日常有哪些方法能減少真空鍍膜機(jī)中的灰塵呢？由于灰塵對(duì)鍍膜效果會(huì)產(chǎn)生比較大的影響，因此未來(lái)避免在真空鍍膜設(shè)備中留下灰塵，應(yīng)該在使用過(guò)程中注意以下幾點(diǎn)來(lái)盡量避免，除此也要注意經(jīng)常清洗，避免灰塵越積越多。

（1）真空鍍膜機(jī)一段時(shí)間后，真空室內(nèi)壁必須要清潔處理；

（2）真空鍍膜適當(dāng)?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度，有利于降低周圍環(huán)境的懸浮固體顆粒物；

（3）工作人員在操作時(shí)需要戴手套、鞋套等，要有規(guī)范的服裝，以保證平時(shí)工作中的清潔；

（4）真空鍍膜清洗襯底材料，必須要做到嚴(yán)格合乎工藝要求；

（5）設(shè)備樣品取出后要注意放置環(huán)境的清潔問(wèn)題；

（6）設(shè)備使用的源材料要符合必要的純度要求；

磁控濺射鍍膜設(shè)備如何使用效率才高?

磁控濺射鍍膜設(shè)備如何使用效率才高？ 這就需要增加氣體的理化效率。增加氣體的離化效率能夠有效的提高濺射的效率。 通常在健身過(guò)程中，經(jīng)過(guò)加速的入射離子轟擊靶材陰極表面的時(shí)候，會(huì)產(chǎn)生電子發(fā)射，而這些在陰極表面產(chǎn)生的電子開始向陽(yáng)極加速進(jìn)入負(fù)輝光區(qū)，和中性氣體原子進(jìn)行碰撞，產(chǎn)生的自持的輝光放電所需離子。電子在平均只有程隨著電子能量的增大而增大，隨著氣壓的增大而減小，特別是在遠(yuǎn)離陰極的地方產(chǎn)生，它們的熱壁損失也是非常大的，這主要是因?yàn)槠潆x化效率低。 因此可以加上一平行陰極表面的磁場(chǎng)就能夠?qū)⒊跏茧娮酉拗圃陉帢O范圍內(nèi)，能夠有效的增加氣體原子的梨花效率，從而提高磁控濺射鍍膜設(shè)備的濺射效率。