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等離子就是在高溫高壓下,拋光鹽水溶,在高溫高壓下,電子會脫離原子核而跑出來,原子 核就形成了一個帶正電的離子,當這些離子達到一定數量的時候可以成為等離子態(tài),等離子態(tài)能量很大,當這些等離子和要拋光的物體摩擦時,頃刻間會使物體達到表面光亮的效果。對工件的任何一個面都能拋光。
等離子拋光加工廠家
提高生產效率。半自動、全自動環(huán)保等離子納米拋光設備通過藥劑可在十幾秒到兩分鐘內達到電鍍鏡面效果,大大提高了生產效率。
半自動、全自動環(huán)保等離子電漿拋光設備采用自動化控制,操作簡單,維護方便,減少作業(yè)人員、降低人工成本。同時也可為客戶節(jié)省因人工拋光、電解拋光、化學拋光等傳統拋光方法而造成的許多材料消耗。
等離子拋光又稱為“納米拋光”,是目前行業(yè)廣為應用的拋光工藝。采用液態(tài)電打磨原理,在特定的浴液中將工件置于陽極。在適溫環(huán)境下,溶液中產生能量巨大的等離子態(tài),當等離子與工件摩擦時,頃刻間會使物體達到表面光亮的效果,實現納米級的材料去除。
隨著環(huán)保意識日漸加強,傳統拋光工藝已難以滿足行業(yè)對、綠色環(huán)保、低成本生產的要求。倍亮拋光等離子系列為行業(yè)提供了一個、環(huán)保的表面優(yōu)化解決方案。
等離子拋光技術中利用穩(wěn)定、自由的等離子,可到達手工/機械研磨所到不了的遮蔽位,進行、無死角、高精度打磨,表面粗糙度Ra<0.09μm。
傳統機械研磨由于利用離心力帶動顆粒打磨,工件不可抵抗地受到強大外力撞擊,往往導致出現變形的情況。加之因研磨顆粒較大難以到達工件遮蔽位,令很多細節(jié)得不到打磨。