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平面研磨機需要的設(shè)備有哪些

平面研磨機需要的設(shè)備有哪些 研磨機主機采用調(diào)速電機驅(qū)動，配置大功率減速系統(tǒng)，軟啟動、軟停止，運轉(zhuǎn)平穩(wěn)。通過上、下研磨盤、太陽輪、游星輪在加工時形成四個方向、速度相互協(xié)調(diào)的研磨運動，達到上下表面同時研磨的運作。下研磨盤可升降，方便工件裝卸。氣動太陽輪變向裝置，控制工件兩面研磨精度和速度。隨機配有修正輪，用于修正上下研磨盤的平行誤差。 1、磨盤：如遇到較軟的工件材料時，比如說研磨光學(xué)玻璃這種材質(zhì)的工件，我們可以采用半軟質(zhì)的磨盤（比如錫盤）或者軟質(zhì)的磨盤（比如瀝青盤）等，使用這類研磨盤的缺點是磨盤比較容易保持平面度，所以會對加工工件的平面度產(chǎn)生一定的影響，而優(yōu)點是研磨出的工件表面變質(zhì)層較小，且表面粗糙度也小。要想獲取較高的研磨表面質(zhì)量，需選用正確且適合的磨盤。 2、磨粒：它主要是按照硬度分為兩類（硬磨粒和軟磨粒），選用研磨時用到的磨粒具備功能體現(xiàn)為形狀、尺寸均勻一致；能適當(dāng)?shù)钠扑?，使切刃鋒利；磨粒的熔點要比工件熔點高；磨粒在加工也中易分散等。 3、加工液：研磨拋光加工液通常由基液（水性或油性）、磨粒、添加劑三部分組成，作用是供給磨粒、排屑、冷卻和潤滑。對加工液的要求如下： 1）能夠有效散熱，以免研具和工件表面熱變形； 2）不可污染工件的； 3）粘性低的，可提高磨粒流動性； 4）化學(xué)物理性能穩(wěn)定的，不會因放置或者溫升而分解變質(zhì)； 5）能夠較好地分散磨粒的。 在平面研磨機研磨拋光時，會伴有發(fā)熱現(xiàn)象，除了工件和研具因溫度上升而發(fā)生形變難以進行高精度研磨外，在局部的磨粒作用點上也會產(chǎn)生相當(dāng)高的溫度，使加工變質(zhì)層深度增加。而適當(dāng)?shù)毓┙o加工液，可以有效保證研具有良好的耐磨性工件的形狀精度及較小的加工變質(zhì)層。添加劑的作用是放置或延緩磨料沉淀，并對工件發(fā)揮化學(xué)作用以提高研磨拋光加工效率和質(zhì)量。

控制研磨盤與工件之間溫度的技巧

控制研磨盤與工件之間溫度的技巧 平面研磨機在加工的過程中對于研磨盤與工件之間的溫度的把握也是需要解決的一個問題，需要把溫度控制在適當(dāng)?shù)臏囟龋哌m當(dāng)溫度就需要降溫，不然對機器和工件的損傷是很大的，在這個問題上，我們給機器添加了一個降溫裝置，這個裝置是在機器開啟的時候也自行啟動，在平面研磨機工作中，磨盤與溫度達到了一定的溫度之后降溫裝置中冷卻液就會流入磨盤和工件中，這樣的不僅可以達到降溫的效果同時還可以起到研磨液的效果。 平面研磨機屬于高精密機器，工件放于研磨盤上，研磨盤逆時轉(zhuǎn)動。工件自己轉(zhuǎn)動，在適當(dāng)?shù)膲毫ο?，工件也研磨盤做相反運動，產(chǎn)生摩擦，達到研磨效果，被廣泛運用于于LED藍寶石襯底、光學(xué)晶體材料、石英晶片、硅片、諸片，導(dǎo)光板、閥片、液壓密、不銹鋼等以及光纖接頭等等各種材料的單面研磨與拋光。

研磨拋光中冷卻研磨盤有什么意義

研磨拋光中冷卻研磨盤有什么意義 從事平面研磨加工的朋友都知道在超精密研磨拋光較薄脆零件過程中，研磨盤和工件是做相對摩擦運動的，研磨盤與工件的局部接觸區(qū)域往往會出現(xiàn)高溫，有時甚至可以達到幾百度。局部的高溫不但會零件表面，形成加工變質(zhì)層，而且會引起零件的局部變形，同時，平面研磨機局部高溫區(qū)的熱量還會以熱傳導(dǎo)的方式傳到整個研磨盤，使研磨盤也會發(fā)生熱變形，研磨盤作為研磨加工的磨具，其面型精度能在一定程度上“”到工件表面。 因此，平面研磨機在進行研磨拋光過程東研磨盤自身的熱變形對工件的面型精度一定會有影響。而且研磨盤溫度越高，越不均勻，工件所受的變形影響越大。因此及時地將局部研磨盤高溫區(qū)的熱量驅(qū)散，合研磨盤各部分的溫度比較均勻且處于較低的水平是非常的必要的。