珠海水晶滴膠標(biāo)牌加工廠家供應(yīng) 延銘PMMA面板加工

用蝕刻與電鍍的方法制作金屬標(biāo)牌，是標(biāo)牌行業(yè)中常用的方 法。隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，計(jì)算機(jī)的應(yīng)用，材料的出現(xiàn)，新工藝的誕 生，給這個(gè)古老而實(shí)用的標(biāo)牌制作方法注入了無(wú)窮的活力。網(wǎng)印感光 蝕刻電鍍等工藝完整結(jié)合起來(lái)，不但能生產(chǎn)出更精美的標(biāo)牌，更華麗 的獎(jiǎng)牌，還能制作出變化無(wú)窮的日用品、禮品、工藝品。  1 蝕刻通常在指在金屬板表面通過(guò)腐蝕與電解的方法產(chǎn)生凹陷， 達(dá)到雕刻的效果。可分為鏤空蝕刻，表面蝕刻和一個(gè)產(chǎn)品既有銨空蝕 刻又有表面蝕刻的二專利申請(qǐng)兼之的 3 種。在技術(shù)分為機(jī)械、化學(xué)和電化學(xué)方法等[1～4]，其中化學(xué)蝕刻具有工藝簡(jiǎn)單、操作方便、精度高和生產(chǎn)成本低等優(yōu)點(diǎn)，適合于批量生產(chǎn)，蝕刻深度為20～200μm。

去邊（Edge bead removal-EBR）--去膠邊的過(guò)程，通常在涂膠后將溶劑噴在硅片的背面或前 邊沿上。 前烘（Soft-bake）-- 在涂膠后用來(lái)去除膠溶劑的溫度步驟。 曝光-- 把涂膠后的硅片，暴露在某種形式的射線下，以在膠上產(chǎn)生隱約的圖像 的步驟。 PEB —曝光以后消除膠里的由襯底反射引起的膠里的駐波的溫度步驟。 顯影（Development）-- 在曝光以后分解膠產(chǎn)生掩膜圖案的過(guò)程。搖床是用一個(gè)下面有弧度的塑料槽，里面盛有蝕刻液，將金屬板放入其中，手工晃動(dòng)溶液槽的一邊，使腐蝕液在金屬板上來(lái)回流動(dòng)。 后烘 (Hard-bake)—用來(lái)去除殘留溶劑，增加膠的沾著力和耐腐能力，在顯影后完成，可以包 括 DUV 固膠。

三、堿溶液的配制 1) 配制比例 (分析純) NaOH (g) : 1 : 純水 H2O(ml) 45 (約 2%)

2) 配制方法 a.開(kāi)槽配制約 200 升堿液； b.稱取 4.4kg , 置于白色塑料筒中, 再量取約 195 升純水將其溶解。 3)配制堿液的注意事項(xiàng): a.先將固體(NaOH)盡量搗碎, 再用適量純水溶解,后加入剩余的純水配成； b.整個(gè)過(guò)程中,需不停攪拌,盡可能不讓沉淀結(jié)塊；蝕刻液的種類﹕不同的蝕刻液,其化學(xué)組分不相同﹐蝕刻速率就不一樣﹐蝕刻系數(shù)也不一樣。 c.攪拌速度適中,不宜過(guò)快。 四、純水 a.用精密 PH 試紙(5.0~8.0)測(cè)試, PH=6.5~7.0 方可生產(chǎn)； b.開(kāi)啟排水閥及進(jìn)水閥正洗水質(zhì)電阻率(即混床電阻率)≧1MΩ cm(1μ s/cm),方可生產(chǎn)。