電感耦合等離子體光譜儀公司信賴推薦「鋼研納克」

鋼研納克電感耦合等離子體質(zhì)譜儀PlasmaMS 300 儀器特點(diǎn)

1. 石英、耐氫1氟酸等豐富多樣的進(jìn)樣系統(tǒng)；分立式矩管，便于拆卸維護(hù)；可選配半導(dǎo)體制冷進(jìn)樣裝置和自動(dòng)進(jìn)樣系統(tǒng)。

2. 27.12MHz全固態(tài)RF發(fā)生器，實(shí)現(xiàn)極高的穩(wěn)定性；自動(dòng)匹配速度快，保證了點(diǎn)火成功率

3. 雙錐接口，可在真空狀態(tài)下直接拆卸維護(hù)

4. 大范圍準(zhǔn)確可調(diào)的三維平臺(tái)，實(shí)現(xiàn)矩管全自動(dòng)定位和校準(zhǔn)

5. 雙離軸離子傳輸（偏轉(zhuǎn)）系統(tǒng)，去除不帶電粒子，保證低噪聲和高靈敏度

6. He氣碰撞池匹配性能高質(zhì)量流量控制器，有效去除多離子干擾

7. 高通量的長(zhǎng)四極桿，質(zhì)量范圍2-265amu，分辨率<0.8amu；應(yīng)用的DDS技術(shù)，實(shí)現(xiàn)自動(dòng)頻率匹配，保證離子有效篩選

8. 雙模式檢測(cè)器，脈沖計(jì)數(shù)和模擬計(jì)數(shù)檢測(cè)，高達(dá)9個(gè)數(shù)量級(jí)線性范圍

9.兩只獨(dú)立分子泵組合而成的性能高雙渦輪分子泵真空系統(tǒng)和全自動(dòng)監(jiān)控系統(tǒng)，確保穩(wěn)定性和靈敏度

10. 無(wú)處不在的屏蔽處理，保護(hù)實(shí)驗(yàn)人員安全和儀器穩(wěn)定

11. 通過多項(xiàng)可靠性實(shí)驗(yàn)的考驗(yàn)，保證儀器運(yùn)行和穩(wěn)定

12. 人性化的工作軟件

PlasmaMS 300 鋼研納克

中文軟件界面，符合中國(guó)人操作習(xí)慣，用戶靈活保存檢測(cè)方法

全方面的狀態(tài)監(jiān)控輸出，錯(cuò)誤主動(dòng)提示，問題一目了然，極大方便日常維護(hù)

帶有LIMS接口，滿足第三方實(shí)驗(yàn)室的需求

鋼研納克國(guó)產(chǎn)ICP-MS PlasmaMS 300

 優(yōu)勢(shì)1——的四極桿電源驅(qū)動(dòng)技術(shù)

DDS變頻技術(shù)

自動(dòng)頻率匹配調(diào)諧，無(wú)需手動(dòng)調(diào)電容，更安全

沒有機(jī)械電容部件，擁有的穩(wěn)定性、抗震動(dòng)，無(wú)需經(jīng)常校準(zhǔn)質(zhì)量軸

：《 一種用于四級(jí)桿質(zhì)譜儀的射頻電源》201610006009.2

PlasmaMS 300 優(yōu)勢(shì)2——的真空控制系統(tǒng)

先進(jìn)的緩沖技術(shù)，機(jī)械泵間斷運(yùn)行，儀器待機(jī)功耗極低

解決高真空腔體被機(jī)械泵油氣污染問題，保證儀器長(zhǎng)時(shí)間性能穩(wěn)定

受保護(hù)《一種電磁閥緩沖、無(wú)返油渦輪分子泵抽真空系統(tǒng)》ZL2017 20926451.7

ICP-MS測(cè)定純鋅中的微量元素

電感耦合等離子體質(zhì)譜法是檢測(cè)復(fù)雜體系中微量和痕量元素的一種分析技術(shù)，具有靈敏度高、檢測(cè)限低、

精密度好、線性范圍寬及多元素同時(shí)測(cè)定等特性。本文主要研究了 ICP-MS法測(cè)定純鋅樣品中鐵、銅、鎘、

銻、鉛、錫等微量元素。本采用溶解樣品，定容分析，本方法具有樣品處理簡(jiǎn)單，容易操作， 測(cè)定準(zhǔn)確度高，精密度好，檢出限低等優(yōu)點(diǎn)。

鋅因?yàn)榫哂袃?yōu)良的抗大氣腐蝕性能，所以被主要用于鋼材和鋼結(jié)構(gòu)件的表面鍍層（如鍍鋅板），廣泛用于汽車、 建筑、船舶、輕工等行業(yè)，純鋅有較好的機(jī)械性能和耐蝕性能，可以加工成板材、箔材、線材形式用于印刷、機(jī)械、

化工、電池、儀表等工業(yè)部門，可配制合金、作合金元素等。純度為98.7%?99.99%的鋅，常含有鉛、鐵、鎘、銅、 、銻、錫等雜質(zhì)，而錫、等為有害雜質(zhì)。隨著材料科學(xué)對(duì)純鋅的純凈度越來越高的要求，使材料的痕量分析

領(lǐng)域面臨新的挑戰(zhàn)。其中越來越多的元素，包括一些并不典型且含量極低的元素，必須采用高靈敏度的檢測(cè)方法， 才能對(duì)其含量提供準(zhǔn)確可靠的數(shù)據(jù)。ICP-MS分析技術(shù)是分析痕量元素有力的技術(shù)，該技術(shù)具有譜圖簡(jiǎn)單，檢出限低、 線性動(dòng)態(tài)范圍寬、快速的多元素分析等特點(diǎn)。但在分析鋼鐵、鋅合金等復(fù)雜樣品時(shí)，由于大量基體的存在以及由

于引入溶劑而產(chǎn)生的大量多原子離子干擾，使ICP-MS的應(yīng)用受到限制。本文主要研究ICP-MS測(cè)定純鋅中痕量元 素的干擾情況及校正方法、基體效應(yīng)的影響等，將所建立的方法應(yīng)用于純鋅中痕量元素的分析，取得了滿意的結(jié)果。