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鍍硬鉻廠家介紹鉻酐的水溶液是鉻酸,是鉻鍍層的來源。實踐證明,鉻酐的濃度可以在很寬的范圍內(nèi)變化。例如,當溫度在45~50℃,Dk=10A/dm2時,鉻酐濃度在50~500g/L范圍內(nèi)變化,甚至高達800g/L,均可獲得光亮鍍鉻層。一般生產(chǎn)中采用的鉻酐濃度為150~400g/L之間。鉻酐的濃度對鍍液的電導(dǎo)率起決定性作用,鍍液溫度升高,電導(dǎo)率隨鉻酐濃度增加向稍高的方向移動。因此,單就電導(dǎo)率而言,宜采用鉻酐濃度較高的鍍鉻液。但采用高濃度鉻酸電解液時,由于隨工件帶出損失嚴重,不僅造成材料的浪費,更主要的是會造成嚴重的環(huán)境污染。而低濃度鍍液對雜質(zhì)金屬離子比較敏感,覆蓋能力較差。鉻酐濃度過高或過低都將使獲得光亮鍍層的溫度和電流密度的范圍變窄。鉻酐濃度低的鍍液陰極電流效率較高,多用于鍍硬鉻。較濃的鍍液主要用于裝飾電鍍,鍍液的性能雖然與鉻酐含量有關(guān),蕞主要的取決于鉻酐和硫酸的比值。一般控制Cr03:SO42-=(80~100):1,蕞佳值為100:1。當SO42-含量過高時,對膠體膜的溶解作用強,基體露出的面積大,真實電流密度小,陰極極化小,得到的鍍層不均勻、發(fā)花,特別是工件凹處還可能露出基體金屬。當SO42-含量過低時,陰極表面只有很少部位的膜被溶解,即成膜的速度大于溶解的速度,鉻的析出受阻或在局部地區(qū)放電長大,所以,鍍層發(fā)灰粗糙,光澤性差。
鍍鉻層的油附性不好,油很難在完整、光滑的鉻層上形成油膜,當潤滑不好時,局部易出現(xiàn)干摩擦現(xiàn)象,難以電鍍處既有較高硬度、又有較大厚度的鉻層,一般的鍍鉻修復(fù)工藝包括:鍍銅—鍍鎳—鍍鉻。
需要注意的是,上述修復(fù)流程不可少,也就是說直接在模具工作面型鍍鉻,要先鍍銅處理再鍍鎳,后面才是鍍鉻。
在汽車行業(yè)。以日本為首。包括美國、韓國等都相繼引入了模具鍍鉻處理,使用后制件的返修率呈現(xiàn)非常明顯降低趨勢。降低了模具維修的工時。
鍍硬鉻電極產(chǎn)生極化的原因,由于得失電子的電極反應(yīng),總要遇到阻力,所以在外電源將電子供給電極以后,離子來不及被還原,外電源輸送來的電子也來不及消耗掉,這樣電極表面就積累了過剩的電子(與未通電時的平衡狀態(tài)相比),使得電極表面上的負電荷比通電前增多,電極電位向負的方向移動而極化。
由此可知,電極發(fā)生極化,實質(zhì)上是因為電極反應(yīng)速度、電子傳遞速度與離子擴散速度三者不相適應(yīng)造成的。陰極濃差極化的發(fā)生,是離子擴散速度小于電極反應(yīng)消耗離子的速度所致,而陰極電化學(xué)極化則是電子傳遞速度大于電極反應(yīng)消耗電子的速度所致。