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未來發(fā)展策略

1、目前實(shí)體經(jīng)濟(jì)走勢整體疲弱，復(fù)蘇充滿不確定性，經(jīng)濟(jì)處于繼續(xù)探底過程，真空鍍膜設(shè)備制造企業(yè)應(yīng)著力進(jìn)行產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)優(yōu)化升級(jí)，重質(zhì)量、重服務(wù)明確市場定位，大力研發(fā)擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的新產(chǎn)品新工藝，提高產(chǎn)品質(zhì)量和服務(wù)水平。

2、依托信息化發(fā)展趨勢，堅(jiān)持“以信息化帶動(dòng)工業(yè)化，以工業(yè)化促進(jìn)信息化”，走出一條科技含量高、經(jīng)濟(jì)效益好、資源消耗低、環(huán)境污染少、人力資源優(yōu)勢得到充分發(fā)揮的新型工業(yè)化路子。

3、依托政府支持，大力加強(qiáng)與擁有行業(yè)先進(jìn)技術(shù)和工藝水平的科研院所、大型企業(yè)、高校合作，使得新品能迅速推向市場。

真空鍍膜技術(shù)及設(shè)備擁有十分廣闊的應(yīng)用領(lǐng)域和發(fā)展前景。未來真空鍍膜設(shè)備行業(yè)等制造業(yè)將以信息化融合為，依靠技術(shù)進(jìn)步，更加注重技術(shù)能力積累，制造偏向服務(wù)型，向世界真空鍍膜設(shè)備行業(yè)等制造業(yè)價(jià)值鏈挺進(jìn)。

真空鍍膜機(jī)是指需要在各種高真空狀態(tài)下進(jìn)行的涂層，包括真空離子蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積組成。

真空鍍膜機(jī)也是目前制造真空條件使用的真空設(shè)備，一般由真空室、真空機(jī)、電控盒三部分組成。鍍膜設(shè)備的清洗：設(shè)備使用一周后，涂層材料不僅涂在工件表面，而且由于不定向，還涂在工作室的襯板上，涂層厚度越來越厚。因此，選用現(xiàn)代化光學(xué)鍍膜系統(tǒng)的關(guān)鍵取決于對(duì)以下因素的認(rèn)真考慮：對(duì)鍍膜產(chǎn)品的預(yù)期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保證高度一致性工藝所必需的所有技術(shù)因素。這一層的膜厚由于組織和纏繞而松散，吸收了大量氣體，導(dǎo)致真空鍍膜設(shè)備泵送越來越慢，所以這個(gè)時(shí)候工作室和襯板都要清理干凈。如果不必要地拆下零件，可以用砂紙打磨。

真空鍍膜設(shè)備主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的真空蒸發(fā)鍍、濺射鍍膜和離子鍍等鍍膜技術(shù)。如今鍍膜技術(shù)及薄膜產(chǎn)品在工業(yè)上的應(yīng)用非常廣泛，尤其是在電子材料與元器件工業(yè)領(lǐng)域中占有及其重要的地位。

如今隨著鍍膜技術(shù)的快速增長，各種類型的真空鍍膜機(jī)也開始隨之出現(xiàn)。所謂真空鍍膜設(shè)備工藝就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。