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以上原料中除種外，第2,3,4種均含輕稀土（w（REO）≈98%），且以CeO2為主，w（CeO2）為48%~50%.我國(guó)具有豐富的資源，據(jù)測(cè)算，其工業(yè)儲(chǔ)量約為1800萬噸（以CeO2計(jì)），這為今后我國(guó)持續(xù)發(fā)展稀土拋光粉奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)，也是我國(guó)獨(dú)有的一大優(yōu)勢(shì)，并可促進(jìn)我國(guó)稀土工業(yè)繼續(xù)高速發(fā)展。

　　1.4主要生產(chǎn)工藝及設(shè)備

　　1.4.1高系稀土拋光粉的生產(chǎn)

　　以稀土混合物分離后的氧化為原料，以物理化學(xué)方法加工成硬度大，粒度均勻、細(xì)小，呈面心立方晶體的粉末產(chǎn)品。其主要工藝過程為：原料→高溫→煅燒→水淬→水力分級(jí)→過濾→烘干→系稀土拋光粉產(chǎn)品。

原料→干法細(xì)磨→配料→混粉→焙燒→磨細(xì)篩分→低級(jí)系稀土拋光粉產(chǎn)品。主要設(shè)備：球磨機(jī)，混料機(jī)，焙燒爐，篩分機(jī)等。主要指標(biāo)：產(chǎn)品中w（REO）≥95%,w（CeO2）≥50%;稀土回收率≥95%;產(chǎn)品粒度為1.5μm~2.5μm.該產(chǎn)品適合于眼鏡片、電視機(jī)顯象管的高速拋光之用。目前，國(guó)內(nèi)生產(chǎn)的低級(jí)系稀土拋光粉的量，約占總產(chǎn)量的90%以上。

稀土拋光粉的應(yīng)用

　　由于系稀土拋光粉具有較優(yōu)的化學(xué)與物理性能，所以在工業(yè)制品拋光中獲得了廣泛的應(yīng)用，如已在各種光學(xué)玻璃器件、電視機(jī)顯像管、光學(xué)眼鏡片、示波管、平板玻璃、半導(dǎo)體晶片和金屬精密制品等的拋光。

　　高系稀土拋光粉，主要適用于精密光學(xué)鏡頭的高速拋光。實(shí)踐表明，該拋光粉的性能優(yōu)良，拋光效果較好，由于價(jià)格較高，國(guó)內(nèi)的使用量較少。

在稀土拋光粉的消費(fèi)中，日本是消費(fèi)者，每年約生產(chǎn)3550噸~4000噸拋光粉，產(chǎn)值35億~40億日元，還從法國(guó)、美國(guó)和中國(guó)進(jìn)口部分拋光粉。其中拋光粉消費(fèi)市場(chǎng)是彩電陰極射線管。二十世紀(jì)90年代中期，日本陰極射線管的生產(chǎn)轉(zhuǎn)向海外，而平面顯示產(chǎn)品產(chǎn)量迅速增加，對(duì)基拋光粉的需求量也迅速增加。估計(jì)日本在液晶顯示用平面顯示器生產(chǎn)上消費(fèi)的拋光粉約占其市場(chǎng)的50%.90年代以來，日本將其陰極射線管用拋光粉的生產(chǎn)技術(shù)和設(shè)備向海外轉(zhuǎn)移，如：日本清美化學(xué)從1989年開始在海外生產(chǎn)陰極射線管用基拋光粉。